[發明專利]一種凹面閃耀光柵的設計方法

無效

• 申請號: 201210388282.8
• 申請日: 2012-10-15
• 公開（公告）號: CN102866445A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發明（設計）人: 徐邦聯;黃元申;盧忠榮;張大偉;倪爭技;王琦;陶春先;莊松林
• 申請（專利權）人: 上海理工大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18
• 代理公司: 上海申匯專利代理有限公司 31001
• 代理人: 吳寶根

1.一種凹面閃耀光柵的設計方法，對于給定半徑為R的凹面基片，通過在基片上刻劃設定角度和間距的刻槽，得到凹面閃耀光柵，其特征在于，所述的入射光為點光源發出的球面波，點光源位于羅蘭圓上；設計刻槽面的角度，使得入射光線與所有的刻槽面保持垂直；設計刻槽的間距，使得相鄰刻槽的光程差為指定波長的整數倍；利用自由曲面加工儀在凹面基片上逐條刻劃出相應角度及間距的刻槽，得到所需的凹面閃耀光柵。

2.根據權利要求1所述凹面閃耀光柵的設計方法，其特征在于，所述指定波長為需要實現閃耀增強的波長。

3.根據權利要求1所述凹面閃耀光柵的設計方法，其特征在于，所述刻槽面的角度為：

其中（x,y,z）為凹面基片上的任意一點，（x₁,y₁,0）為位于主截面xOy上入射點坐標。

4.根據權利要求1所述凹面閃耀光柵的設計方法，其特征在于，所述第n條刻槽的位置為：

其中d_n為位于主截面xOy面上入射點（x₁,y₁,0）到第n條刻槽的距離，(x_n,y_n,0)為第n條刻槽與主截面xOy的交點。