[發(fā)明專利]誤差擴(kuò)散和網(wǎng)格移位的算法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210387380.X | 申請日: | 2012-10-12 |
| 公開(公告)號: | CN103293870A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉沛怡;林世杰;王文娟;許照榮;林本堅(jiān) | 申請(專利權(quán))人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孫征 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 誤差 擴(kuò)散 網(wǎng)格 移位 算法 | ||
1.一種在光刻處理中使用的方法,包括:
在圖形數(shù)據(jù)庫系統(tǒng)(GDS)網(wǎng)格中提供集成電路(IC)布局設(shè)計(jì);
將所述IC布局設(shè)計(jì)GDS網(wǎng)格轉(zhuǎn)換為子像素曝光網(wǎng)格;
對所述子像素曝光網(wǎng)格應(yīng)用誤差擴(kuò)散技術(shù);
對接受所述誤差擴(kuò)散之后的所述子像素曝光網(wǎng)格應(yīng)用網(wǎng)格移位技術(shù),以生成網(wǎng)格移位曝光網(wǎng)格;
在對接受所述誤差擴(kuò)散之后的所述子像素曝光網(wǎng)格應(yīng)用所述網(wǎng)格移位的同時,將接受所述誤差擴(kuò)散之后的所述子像素曝光網(wǎng)格轉(zhuǎn)換為具有較大像素尺寸的曝光網(wǎng)格;
將所述曝光網(wǎng)格與所述網(wǎng)格移位曝光網(wǎng)格相加,以生成第二曝光網(wǎng)格,其中,所述第二曝光網(wǎng)格使用比所述子像素曝光網(wǎng)格更少的數(shù)據(jù)量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述子像素曝光網(wǎng)格由像素的二維陣列形成,并且其中,所述像素尺寸被選擇為大于所述IC布局設(shè)計(jì)GDS網(wǎng)格的所述像素尺寸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中,所述子像素曝光網(wǎng)格的所述像素尺寸在0.5nm到8.0nm的范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述誤差擴(kuò)散技術(shù)包括Floyd-Steinberg誤差擴(kuò)散算法。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述網(wǎng)格移位包括沿著第一方向移位。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中,所述網(wǎng)格移位包括沿著第二方向移位。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述網(wǎng)格移位包括沿著第一方向和第二方向移位。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中,所述移位等于在每個方向上的所述網(wǎng)格移位子像素曝光網(wǎng)格的像素尺寸的一半。
9.一種用于在光刻中提供曝光網(wǎng)格的方法,包括:
在圖形數(shù)據(jù)庫系統(tǒng)(GDS)網(wǎng)格中提供集成電路(IC)布局設(shè)計(jì);
將所述IC設(shè)計(jì)布局GDS網(wǎng)格轉(zhuǎn)換為具有0.5nm到8.0nm的像素尺寸的子像素曝光網(wǎng)格,并且使用針對灰度級的k位;
對所述子像素曝光網(wǎng)格應(yīng)用Floyd-Steinberg誤差擴(kuò)散算法,并且使用針對灰度級的少于k位;
對接受所述誤差擴(kuò)散之后的所述子像素曝光網(wǎng)格應(yīng)用網(wǎng)格移位,以生成網(wǎng)格移位曝光網(wǎng)格,并且使用針對灰度級的少于k位;
在對接受所述誤差擴(kuò)散之后的所述子像素曝光網(wǎng)格應(yīng)用所述網(wǎng)格移位的同時,將接受所述誤差擴(kuò)散之后的所述子像素曝光網(wǎng)格轉(zhuǎn)換為具有比所述子像素曝光網(wǎng)格的像素尺寸更大的像素尺寸的曝光網(wǎng)格;以及
結(jié)合所述曝光網(wǎng)格與所述網(wǎng)格移位曝光網(wǎng)格,以生成第二曝光網(wǎng)格,其中,所述第二曝光網(wǎng)格使用比所述子像素曝光網(wǎng)格更少的數(shù)據(jù)量。
10.一種提供用于光刻處理的曝光網(wǎng)格的方法,包括:
在圖形數(shù)據(jù)庫系統(tǒng)(GDS)網(wǎng)格中提供具有像素坐標(biāo)系統(tǒng)的二維陣列中的多個多邊形的集成電路(IC)布局設(shè)計(jì);
對所述IC布局設(shè)計(jì)GDS網(wǎng)格應(yīng)用鄰近校正處理;
使用大于所述IC布局設(shè)計(jì)GDS網(wǎng)格的像素尺寸并且使用針對灰度級的k位將所述IC布局GDS網(wǎng)格轉(zhuǎn)換為具有像素坐標(biāo)系統(tǒng)的二維陣列中的多個多邊形的子像素曝光網(wǎng)格;
對所述子像素曝光網(wǎng)格應(yīng)用所述Floyd-Steinberg誤差擴(kuò)散,并且使用針對灰度級的少于k位;
對接受所述誤差擴(kuò)散之后的所述子像素曝光網(wǎng)格應(yīng)用將多個網(wǎng)格移位,以生成網(wǎng)格移位曝光網(wǎng)格,其中,所述網(wǎng)格移位曝光網(wǎng)格使用針對灰度級的(k-1)位;
在對接受所述誤差擴(kuò)散之后的所述子像素曝光網(wǎng)格應(yīng)用所述網(wǎng)格轉(zhuǎn)移的同時,將接受所述誤差擴(kuò)散之后的所述子像素曝光網(wǎng)格轉(zhuǎn)換為具有為所述子像素曝光網(wǎng)格的像素尺寸的兩倍的像素尺寸的曝光網(wǎng)格;以及
將所述曝光網(wǎng)格與所述網(wǎng)格移位曝光網(wǎng)格相加,以生成第二曝光網(wǎng)格,其中,所述第二曝光網(wǎng)格使用比所述子像素曝光網(wǎng)格更少的數(shù)據(jù)量。
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