[發(fā)明專利]玻璃板研磨裝置的監(jiān)控方法及監(jiān)控系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210376157.5
• 申請日: 2012-09-29
• 公開（公告）號: CN103029042A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 秋山秀;小暮祐二;勝呂昭男
• 申請（專利權(quán)）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: B24B51/00
• 分類號: B24B51/00
• 代理公司: 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 高培培;車文

1.一種玻璃板研磨裝置的監(jiān)控方法，其特征在于，包括：

液體涂敷工序，向吸附玻璃板的吸附片涂敷液體；

吸附工序，使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液體的所述吸附片；

研磨工序，研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面；

剝離工序，向所述研磨面被研磨了的所述玻璃板和所述吸附片的邊界部噴射流體，使所述玻璃板的一部分從所述吸附片剝離；

拍攝工序，對從所述吸附片剝離了一部分的所述玻璃板進(jìn)行拍攝；及

圖像處理工序，對所述拍攝到的所述玻璃板的圖像信息進(jìn)行圖像處理，計算相對于所述吸附片的所述玻璃板的吸附部分的面積。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃板研磨裝置的監(jiān)控方法，

還包括為使由所述圖像處理工序算出的所述吸附部分的面積成為規(guī)定的面積而控制所述液體涂敷工序中的所述液體的涂敷量的液體控制工序。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的玻璃板研磨裝置的監(jiān)控方法，

還包括為使由所述圖像處理工序算出的所述吸附部分的面積成為規(guī)定的面積而控制所述剝離工序中的所述流體的噴射量的流體控制工序。

4.一種玻璃板研磨裝置的監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，包括：

液體涂敷單元，向吸附玻璃板的吸附片涂敷液體；

吸附單元，使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液體的所述吸附片；

研磨單元，研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面；

流體噴射單元，向被所述研磨單元研磨了的所述玻璃板和所述吸附片的邊界部噴射流體；

拍攝單元，對從所述吸附片剝離了一部分的所述玻璃板進(jìn)行拍攝；及

圖像處理單元，對由所述拍攝單元拍攝到的所述玻璃板的圖像信息進(jìn)行圖像處理，計算相對于所述吸附片的所述玻璃板的吸附部分的面積。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的玻璃板研磨裝置的監(jiān)控系統(tǒng)，

還包括為使由所述圖像處理單元算出的所述吸附部分的面積成為規(guī)定的面積而控制由所述液體涂敷單元涂敷的所述液體的涂敷量的液體控制單元。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的玻璃板研磨裝置的監(jiān)控系統(tǒng)，

還包括為使由所述圖像處理單元算出的所述吸附部分的面積成為規(guī)定的面積而控制由所述流體噴射單元噴射的所述流體的噴射量的流體控制單元。