[發(fā)明專(zhuān)利]一種鋁合金表面微弧氧化膜功能化設(shè)計(jì)的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210375655.8 | 申請(qǐng)日： | 2012-09-27 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN103695981A | 公開(kāi)（公告）日： | 2014-04-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 杜克勤;郭興華;郭泉忠;王勇;王福會(huì) | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 中國(guó)科學(xué)院金屬研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C25D11/06 | 分類(lèi)號(hào)： | C25D11/06 |
| 代理公司： | 沈陽(yáng)科苑專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 21002 | 代理人： | 許宗富;周秀梅 |
| 地址： | 110016 遼*** | 國(guó)省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 鋁合金 表面 氧化 功能 設(shè)計(jì) 方法 | ||
1.一種鋁合金表面微弧氧化膜功能化設(shè)計(jì)的方法，其特征在于：該方法首先將鋁合金工件置于電解液中，待處理的工件表面在電解液中作為工作電極，不銹鋼導(dǎo)體作為對(duì)電極，并與所述工件表面構(gòu)成電解回路；然后向所述電解回路同時(shí)施加方波脈沖電壓及高頻載波對(duì)工件表面進(jìn)行氧化處理，同時(shí)電流密度控制在0.2-20A/dm2之間，處理時(shí)間為30～200min，處理溫度不高于50℃。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋁合金表面微弧氧化膜功能化設(shè)計(jì)的方法，其特征在于：所述電解液其溶劑為水，溶質(zhì)由基礎(chǔ)組成、輔助添加劑和致密化添加劑組成；所述基礎(chǔ)組成為氫氧化鈉、硅酸鹽、硼酸鹽和磷酸鹽中一種或幾種；輔助添加劑為釩酸鹽、鉬酸鹽、十二烷基苯磺酸鹽、癸酸鹽、苯并三氮唑、蘋(píng)果酸鹽中的一種或幾種；致密化添加劑為硝酸釔、硝酸鈰、硝酸鑭中的一種或幾種。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鋁合金表面微弧氧化膜功能化設(shè)計(jì)的方法，其特征在于：所述溶質(zhì)的總濃度為1-20g/L，控制電解液的pH值為5~8。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋁合金表面微弧氧化膜功能化設(shè)計(jì)的方法，其特征在于：所述方波脈沖電壓頻率為100～400Hz，正向幅值為250-400V，脈寬為0.6ms，負(fù)向電壓幅值為450-700V，脈寬為0.4ms。所述高頻載波電壓幅值為50-300V，高頻載波頻率為2000-3000Hz。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鋁合金表面微弧氧化膜功能化設(shè)計(jì)的方法，其特征在于：所述方波脈沖電壓的占空比為以下四種情況之一：1）正向占空比0％，負(fù)向占空比0%；2）正向占空比10%，負(fù)向占空比10%；3）正向占空比10%，負(fù)向占空比20%；4）正向占空比10%，負(fù)向占空比30%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋁合金表面微弧氧化膜功能化設(shè)計(jì)的方法，其特征在于：所述鋁合金為L(zhǎng)Y11、LY12、LC4、2A70、ZL205、LY16、2024、5083、6063或純鋁。
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