[發明專利]控制拋光液濃度穩定的系統和方法有效
| 申請號: | 201210375488.7 | 申請日: | 2012-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN103699143B | 公開(公告)日: | 2018-05-18 |
| 發明(設計)人: | 王堅;金一諾;王暉 | 申請(專利權)人: | 盛美半導體設備(上海)有限公司 |
| 主分類號: | G05D11/13 | 分類號: | G05D11/13 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 陸嘉 |
| 地址: | 201203 上海市浦東新區*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 控制 拋光 濃度 穩定 系統 方法 | ||
1.一種控制拋光液濃度穩定的系統,其特征在于,包括:儲存槽、控制器、濃度檢測裝置、液體循環控制裝置、電鍍裝置、液體排放控制裝置及液體供應控制裝置,其中,儲存槽儲存拋光液,濃度檢測裝置檢測儲存槽中拋光液的金屬離子濃度及酸根濃度并將檢測到的金屬離子濃度和酸根濃度發送至控制器,液體循環控制裝置能夠將儲存槽中的拋光液輸送至電鍍裝置進行電鍍反應并將電鍍裝置內的液體輸送回儲存槽,電鍍裝置用于電鍍反應并將拋光液中的金屬離子回收,液體排放控制裝置能夠將儲存槽中的拋光液排出,液體供應控制裝置能夠向儲存槽補充拋光液原液,控制器接收濃度檢測裝置發送的金屬離子濃度和酸根濃度并將接收的金屬離子濃度和酸根濃度分別與設定的金屬離子目標濃度值和酸根目標濃度值比較,根據比較結果分別向液體循環控制裝置、電鍍裝置、液體排放控制裝置及液體供應控制裝置發送控制指令以調節儲存槽中拋光液的金屬離子濃度和酸根濃度至目標濃度值;
其中,從所述儲存槽中排出的拋光液的體積與向所述儲存槽中補充的拋光液原液的體積相同,且均與所述控制器計算出的需從所述儲存槽中排出的拋光液的體積或是需向所述儲存槽中補充的拋光液原液的體積相一致;
所述液體供應控制裝置與一緩存槽相連接,所述緩存槽中存放有與所述儲存槽中儲存的拋光液的物理性質一致的拋光液原液。
2.根據權利要求1所述的控制拋光液濃度穩定的系統,其特征在于,當濃度檢測裝置檢測到的儲存槽中拋光液的金屬離子濃度高于金屬離子目標濃度值時,控制器分別向液體循環控制裝置和電鍍裝置發送第一控制指令和第二控制指令,液體循環控制裝置接收第一控制指令后將儲存槽中一定體積的拋光液輸送至電鍍裝置進行電鍍反應,并將電鍍裝置內的液體輸送回儲存槽,直至濃度檢測裝置檢測到儲存槽中拋光液的金屬離子濃度小于或等于金屬離子目標濃度值時,液體循環控制裝置停止向電鍍裝置輸送拋光液。
3.根據權利要求1所述的控制拋光液濃度穩定的系統,其特征在于,當濃度檢測裝置檢測到的儲存槽中拋光液的酸根濃度低于酸根目標濃度值時,控制器分別向液體排放控制裝置和液體供應控制裝置發送第三控制指令和第四控制指令,液體排放控制裝置接收第三控制指令后將儲存槽中一定體積的拋光液排出,液體供應控制裝置接收第四控制指令后向儲存槽供應一定體積的拋光液原液,直至濃度檢測裝置檢測到儲存槽中拋光液的酸根濃度高于或等于酸根目標濃度值時,液體排放控制裝置停止將儲存槽中的拋光液排出,液體供應控制裝置也停止向儲存槽供應拋光液原液。
4.根據權利要求3所述的控制拋光液濃度穩定的系統,其特征在于,液體排放控制裝置將儲存槽中一定體積的拋光液排出至一廢液池。
5.根據權利要求1所述的控制拋光液濃度穩定的系統,其特征在于,緩存槽與一原液槽相連接,原液槽向緩存槽供應拋光液原液。
6.根據權利要求1所述的控制拋光液濃度穩定的系統,還進一步包括一液位檢測裝置,液位檢測裝置與控制器相連接,用于檢測儲存槽中拋光液的液位,并將檢測到的液位發送至控制器,控制器接收該液位并根據儲存槽的橫截面積計算出儲存槽中拋光液的體積。
7.一種控制拋光液濃度穩定的方法,其特征在于,包括:
檢測儲存槽中拋光液的金屬離子濃度和酸根濃度;
將檢測到的金屬離子濃度和酸根濃度分別與設定的金屬離子目標濃度值和酸根目標濃度值比較,根據比較結果分別調節儲存槽中拋光液的金屬離子濃度和酸根濃度至目標濃度值;
其中,當檢測到的儲存槽中拋光液的酸根濃度低于酸根目標濃度值時,將儲存槽中一定體積的拋光液排出,并向儲存槽供應一定體積的拋光液原液,從所述儲存槽中排出的拋光液的體積與向所述儲存槽中補充的拋光液原液的體積相同,且均與計算出的需從所述儲存槽中排出的拋光液的體積或是需向所述儲存槽中補充的拋光液原液的體積相一致;
提供一緩存槽,所述緩存槽中存放有與所述儲存槽中儲存的拋光液的物理性質一致的拋光液原液。
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