[發(fā)明專(zhuān)利]一種環(huán)形磁控濺射裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210375207.8 | 申請(qǐng)日: | 2012-09-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102864426A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-01-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉星元;林杰;李會(huì)斌 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/35 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/35 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)春菁華專(zhuān)利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210 | 代理人: | 南小平 |
| 地址: | 130033 吉*** | 國(guó)省代碼: | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 環(huán)形 磁控濺射 裝置 | ||
1.一種環(huán)形磁控濺射裝置,包括外充氣管(1)、靶材(2)、靶基(3)、外磁鋼(6)、內(nèi)磁鋼(10)、極靴(9)及外屏蔽板(7),其特征在于,所述內(nèi)磁鋼(10)中間開(kāi)有矩形孔進(jìn)而形成環(huán)狀矩形磁鋼,所述極靴(9)中間開(kāi)的孔與所述內(nèi)磁鋼(10)中間開(kāi)的孔的大小相同;所述極靴(9)的長(zhǎng)度及寬度與所述外磁鋼(6)的長(zhǎng)度及寬度相同;所述內(nèi)磁鋼(10)和所述外磁鋼(6)置于所述極靴(9)上,所述外磁鋼(6)外邊緣與所述極靴(9)外邊緣對(duì)齊,所述內(nèi)磁鋼(10)中間開(kāi)的孔的內(nèi)邊緣與所述極靴(9)中間開(kāi)的孔的內(nèi)邊緣對(duì)齊;所述外磁鋼(6)及所述內(nèi)磁鋼(10)與所述極靴(9)形成一個(gè)環(huán)形的磁場(chǎng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)形磁控濺射裝置,其特征在于,所述環(huán)形磁控濺射裝置還包括內(nèi)充氣管(4)、壓靶材條(5)、靶體(8)以及內(nèi)屏蔽板(11);所述內(nèi)磁鋼(10)、外磁鋼(6)、極靴(9)組裝在靶體(8)上,所述靶體(8)上面設(shè)有靶基(3),所述靶基(3)上設(shè)有內(nèi)外兩圈壓靶材條(5),所述壓靶材條(5)位于靶基(3)上,整個(gè)濺射裝置外部設(shè)有外屏蔽板(7),所述內(nèi)屏蔽板(11)上部、內(nèi)磁鋼(10)之外設(shè)有內(nèi)充氣管(4)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁控濺射裝置,其特征在于,所述外磁鋼(6)、極靴(9)、靶體(8)及靶基(3)均為矩形的環(huán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁控濺射裝置,其特征在于,所述靶體(8)和靶基(3)組成的整體為密封體。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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