[發(fā)明專利]一種納米晶鐵-鎳-鉻合金箔的電沉積制備方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210361436.4 | 申請(qǐng)日: | 2012-09-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102839399A | 公開(公告)日: | 2012-12-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄧姝皓;劉晗;葉曉慧;龔竹青 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中南大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C25D1/04 | 分類號(hào): | C25D1/04;C25D3/56;C25D17/10 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)沙市融智專利事務(wù)所 43114 | 代理人: | 顏勇 |
| 地址: | 410083 湖南*** | 國(guó)省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 納米 金箔 沉積 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明公開了一種納米晶鐵-鎳-鉻合金箔的電沉積制備方法,采用電化學(xué)沉積的方法在硫酸鹽-氯化物-三價(jià)鉻水溶液體系中連續(xù)制備出納米晶鐵-鎳-鉻合金箔。屬于電化學(xué)沉積技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
關(guān)于鐵-鎳-鉻合金電沉積的工藝及理論始于20世紀(jì)六、七十年代,在硫酸鹽鍍液體系中電沉積出鐵-鎳-鉻合金鍍層;到80年代中期發(fā)展較快,先后出現(xiàn)了氯化物、DMF水溶液以及氯化物-硫酸鹽混合體系沉積鐵鎳鉻合金鍍層。但之前電沉積鐵-鎳-鉻合金的相關(guān)研究主要集中于合金鍍層的工藝探索和研究,而幾乎沒(méi)有涉及三元合金箔材的制備,這主要是由以下幾點(diǎn)造成的:(1)三元合金共沉積電化學(xué)過(guò)程十分復(fù)雜,影響因素較多;(2)合金中鉻含量提高,由于晶格畸變?cè)斐蓛?nèi)應(yīng)力顯著增大,內(nèi)應(yīng)力可通過(guò)鍍層的微裂紋釋放部分,其他的則向基體釋放,但合金箔由于與基體結(jié)合較弱,內(nèi)應(yīng)力只能在合金箔中釋放,因此常導(dǎo)致合金箔開裂而使實(shí)際生產(chǎn)受限;(3)另外三價(jià)鉻電沉積雖然較六價(jià)鉻的環(huán)保,但由于三價(jià)鉻易于與水形成穩(wěn)定的配位化合物,造成其還原困難且沉積速度慢,所報(bào)道的電沉積的鉻合金鍍層厚度一般不超過(guò)十微米,很難像箔材一樣與基體分離,因此鐵-鎳-鉻合金鍍層的制備與鐵-鎳-鉻合金箔材的制備相差甚遠(yuǎn)。
本專利申請(qǐng)是在前專利CN20041000271.4的基礎(chǔ)上的繼續(xù)延伸,專利CN20041000271.4報(bào)道了采用電沉積方法制備鐵-鎳-鉻合金箔,合金中鐵鎳總含量達(dá)98wt%以上,鉻含量難以超過(guò)2wt%;這主要是由于此電沉積體系所使用的配位劑-甲、乙酸,對(duì)三價(jià)鉻離子的配位能力過(guò)強(qiáng),而對(duì)亞鐵離子和鎳離子的配位能力較弱,因此還原時(shí)鐵、鎳較鉻容易,使得合金箔中鐵鎳含量較高,而鉻含量很低。另外合金箔中鉻含量提高,也會(huì)使合金箔內(nèi)應(yīng)力增大,造成合金箔容易開裂,因此合金箔的耐腐蝕性、硬度等性能還有待改善。除此之外,國(guó)內(nèi)外關(guān)于較高鉻含量的鐵鎳鉻合金箔未見報(bào)道。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)之不足而提供一種工藝環(huán)保、操作簡(jiǎn)單、成本低廉、生產(chǎn)周期短,所生產(chǎn)的合金箔厚度和成分可以控制,力學(xué)、耐蝕性能優(yōu)良且具備電磁屏蔽性能的納米晶鐵-鎳-鉻合金箔的電沉積制備方法;制備的納米晶鐵-鎳-鉻合金箔可應(yīng)用于電子、通信、機(jī)電等工業(yè)領(lǐng)域。
本發(fā)明納米晶鐵-鎳-鉻合金箔的電沉積制備方法,其特征在于:采用硫酸鹽-氯化物-三價(jià)鉻鹽水溶液體系作電解液,以金屬鈦為陰極,表面均布有金屬氧化物的鈦板為催化陽(yáng)極,沉積電源為直流電源或脈沖電源;沉積工藝條件為:溫度35~70℃,電解液pH值0.5~4;電解液包括下述組分,按質(zhì)量體積濃度(g/L)組成:
本發(fā)明納米晶鐵-鎳-鉻合金箔的電沉積制備方法中,采用直流電源沉積時(shí),陰極電流密度6~25A/dm2。
本發(fā)明納米晶鐵-鎳-鉻合金箔的電沉積制備方法中,采用脈沖電源沉積時(shí),陰極電流密度6~30A/dm2,脈沖周期10~100ms,占空比為0.1~0.5。
本發(fā)明納米晶鐵-鎳-鉻合金箔的電沉積制備方法中,在溫度60℃,電解液pH值1~2,陰極電流密度10~20A/dm2,沉積時(shí)間為45~60min,電解液組分為:NiSO4·6H2O50~200g/L,NiCl2·6H2O20~50g/L,F(xiàn)eSO4·6H2O20~100g/L,CrCl3·6H2O10~90g/L,H3BO320~45g/L,氨基乙酸10~30g/L,尿素2~50g/L,抗壞血酸2~50g/L,糖精2~50g/L,十二烷基硫酸鈉0.1~0.5g/L時(shí),沉積得到納米晶合金箔。
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