[發(fā)明專利]以二取代苯并噻唑作為緩蝕劑的褪菲林液組合物無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210360261.5 | 申請日: | 2012-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN102830596A | 公開(公告)日: | 2012-12-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 葉紹明;劉彬云;李衛(wèi)明;王植材 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東東碩科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/42 | 分類號: | G03F7/42 |
| 代理公司: | 廣州三辰專利事務(wù)所(普通合伙) 44227 | 代理人: | 范欽正 |
| 地址: | 510545 廣東省廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 取代 噻唑 作為 緩蝕劑 褪菲林液 組合 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及在印制電路板(PCB)超精細線路的生產(chǎn)工藝過程中,用于快速高效地除去銅線路表面菲林的褪菲林液,該褪菲林液對銅面有良好的緩蝕作用,保證褪膜后線路的完整性。?
背景技術(shù)
隨著電子產(chǎn)品功能的多元化、輕薄微型化、便攜化和低成本的發(fā)展要求,對作為電子產(chǎn)品的核心——電路板的制造也提出了更高的要求,在線路制作方面,線路的設(shè)計越來越密集,制作越來越精細化,銅導(dǎo)線的線寬/間距(L/S)由100μm/100μm?→80μm/80μm?→?50μm/60μm?→?40μm/50μm逐漸縮小,甚至出現(xiàn)了更細的超精細線路。精細線路的制作是靠光化學(xué)圖形轉(zhuǎn)移來實現(xiàn)的,該過程必須要使用附著力強、高解析度的干膜,而精細線路上的高解析度干膜的褪除需要使用性能更高的褪菲林液。?
在褪菲林工藝中,業(yè)界一般使用無機堿如3~5%氫氧化鈉溶液或氫氧化鉀溶液。使用無機堿作為褪菲林液價格便宜,一直在線路板制造行業(yè)中廣泛使用。無機堿褪菲林液的缺點主要有:對附著力強的干膜和幼細線路菲林褪除效果差,對高密度幼細間距中菲林無法褪除干凈而造成線路間短路;處理時間長,生產(chǎn)效率低;NaOH易氧化和腐蝕銅面,使銅線變薄,在后續(xù)工序中容易造成線路變形,影響成品的品質(zhì)。?
基于無機堿作為褪菲林液的上述缺點,業(yè)界逐漸開發(fā)出以有機堿作為主要成分的褪菲林液,并逐步被PCB生產(chǎn)廠家接受并投入使用。專利號為ZL?01808573.3提到用于大規(guī)模集成電路(LSI)和超大規(guī)模集成電路(VLSI)等半導(dǎo)體器件的制造工藝中的光刻膠剝離液組合物,包含一乙醇胺、單異丙醇胺等氨基醇化合物,N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等有機溶劑,兒茶酚、間苯二酚、D-木糖醇作為緩蝕劑,其余為水。專利號為ZL?200410059458.0提到一種光致抗蝕劑剝離液組合物,在半導(dǎo)體元件和液晶顯示元件等的制造工序中,用于剝離在濕蝕刻和干蝕刻工序后殘留的光致抗蝕劑。其組合物含有一乙醇胺、二乙醇胺等有機胺化合物;乙二醇一丁醚、二甘醇一丁醚等乙二醇醚化合物;嘌呤、6-氨基嘌呤、6-甲氧基嘌呤等作緩蝕劑,還含有山梨糖醇、甘露醇、木糖醇等與上述嘌呤類物質(zhì)作為混合緩蝕劑,其余成分為水。這些有機堿和有機溶劑的組合褪膜液能極大提升褪膜性能,但對細線路的保護能力不強,仍然會出現(xiàn)銅線被腐蝕的情況,后續(xù)工序的品質(zhì)仍然得不到保障。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種以二取代苯并噻唑作為緩蝕劑的褪菲林液組合物,在印制電路板(PCB)超精細線路的生產(chǎn)工藝過程中,用于快速高效地除去銅線路表面菲林的褪菲林液,并且不腐蝕銅面,保證銅線的厚度,使后續(xù)工序不會產(chǎn)生線路變形,保證成品的品質(zhì)。?
為了達到這些目的,本發(fā)明提供一種以二取代苯并噻唑作為緩蝕劑的褪菲林液組合物,所述該褪菲林液組合物包含如結(jié)構(gòu)式(1)的二取代苯并噻唑作為緩蝕劑的有機胺水溶液。?
本發(fā)明的技術(shù)解決方案是,本發(fā)明由6.0~10.0?wt%的脂肪胺,0.5~2.0?wt%的醇醚類有機溶劑,0.05~0.20wt%的二取代苯并噻唑作為緩蝕劑,其余為水組成,其中二取代苯并噻唑為現(xiàn)有技術(shù)物質(zhì),它的結(jié)構(gòu)式是:?
?
?式中,R1?=?SH,NH2
??????R2?=?NH2,OCH3,SO3Na,OC2H5
??????式(1)
二取代苯并噻唑選自如下的一種化合物:2-氨基-4-甲氧基苯并噻唑(如結(jié)構(gòu)式2),2-巰基-6-氨基苯并噻唑(如結(jié)構(gòu)式3),2-氨基-6-乙氧基苯并噻唑(如結(jié)構(gòu)式4),2-巰基-5-磺酸鈉苯并噻唑(如結(jié)構(gòu)式5),2-氨基-5-磺酸鈉苯并噻唑(如結(jié)構(gòu)式6),2-巰基-5-甲氧基苯并噻唑(如結(jié)構(gòu)式7)。
緩蝕劑可以選用上述任意一種或兩種化合物的組合。緩蝕劑的含量優(yōu)選0.05~0.20wt%,最優(yōu)選為0.10~0.15?wt%,如果緩蝕劑的含量小于0.05wt%,則對銅面和錫面不能起到有效的緩蝕作用,仍然會產(chǎn)生銅線氧化和腐蝕的現(xiàn)象;如果緩蝕劑的含量大于0.2wt%,則不會對金屬表面產(chǎn)生更好的保護作用,反而會因為溶解度的限制使緩蝕劑本身容易在金屬面上析出,同時增加成本。?
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
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