[發明專利]氧化硅為內核的氧化鈰復合磨料及其制備方法無效
| 申請號： | 201210335193.7 | 申請日： | 2012-09-11 |
| 公開（公告）號： | CN103666372A | 公開（公告）日： | 2014-03-26 |
| 發明（設計）人： | 吳秋芳;史運寶;高緯;李福清;馬新勝 | 申請（專利權）人： | 上海華明高技術（集團）有限公司;華東理工大學 |
| 主分類號： | C09K3/14 | 分類號： | C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海金盛協力知識產權代理有限公司 31242 | 代理人： | 羅大忱 |
| 地址： | 200231 上海*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化 內核 復合 磨料 及其 制備 方法 | ||
1.氧化硅為內核的氧化鈰復合磨料，其特征在于，顆粒的平均粒徑D50為1.5~10μm，以所述復合磨料的總質量計，CeO2的含量為7%~17%。
2.根據權利要求1所述的氧化硅為內核的氧化鈰復合磨料，其特征在于，形貌為不規則的多棱角狀。
3.制備權利要求1或2所述的氧化硅為內核的氧化鈰復合磨料的方法，其特征在于，包括如下步驟：
（1）將氧化硅微粉加入鈰鹽溶液中，攪拌分散，得到懸浮液；
（2）將碳酸氫銨溶液加入懸浮液反應至pH為7~8，陳化1～3h；
（3）然后過濾、洗滌，并烘干沉淀物，煅燒得到所述的氧化硅為內核的氧化鈰復合磨料；煅燒溫度為750~950℃；煅燒時間為2~3h。
4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述鈰鹽為硝酸鈰、氯化鈰或硫酸鈰中的一種。
5.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述鈰鹽溶液中，鈰離子的濃度為0.01~0.03mol/l。
6.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，鈰鹽的用量按CeO2計，為氧化硅微粉質量的7%~20%。
7.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，步驟（2）中，懸浮液的溫度為30~60℃，所述碳酸氫銨濃度濃度0.08~0.24mol/l，反應時間為40~100min。
8.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述氧化硅微粉粒徑分布為1~9μm。
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