[發明專利]透明導電性薄膜的制造方法有效
| 申請號： | 201210330181.5 | 申請日： | 2012-09-07 |
| 公開（公告）號： | CN103000299A | 公開（公告）日： | 2013-03-27 |
| 發明（設計）人： | 山崎由佳;梨木智剛 | 申請（專利權）人： | 日東電工株式會社 |
| 主分類號： | H01B13/00 | 分類號： | H01B13/00;H01B5/14 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 透明 導電性 薄膜 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種透明導電性薄膜的制造方法，其具備如下工序：
第1工序，在厚度為10～50μm的薄膜基材的第一表面上層疊由銦系復合氧化物形成的非晶質層；
第2工序，在利用輸出輥輸送層疊有所述非晶質層的薄膜基材并在卷繞輥上卷繞的中途，將該薄膜基材在160℃以上的溫度下加熱，使所述非晶質層結晶化而形成透明導體層；
第3工序，在所述薄膜基材的第二表面上形成粘合劑層。
2.根據權利要求1所述的透明導電性薄膜的制造方法，其中，在所述第2工序中，在180～220℃下加熱所述薄膜基材。
3.根據權利要求1或2所述的透明導電性薄膜的制造方法，其中，在所述第2工序中，通過使所述薄膜基材通過加熱室來進行加熱。
4.根據權利要求3所述的透明導電性薄膜的制造方法，其中，在所述第2工序中，所述加熱室內的溫度為180～220℃，通過該加熱室的時間為30秒～5分鐘。
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