[發(fā)明專利]陣列基板及顯示器件無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210326702.X | 申請日： | 2012-09-05 |
| 公開（公告）號： | CN102830557A | 公開（公告）日： | 2012-12-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉莎 | 申請（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1343 | 分類號： | G02F1/1343;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人： | 韓國勝 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 陣列 顯示 器件 | ||
1.一種陣列基板，包括形成在基板上的公共電極和像素電極；其特征在于，所述公共電極包括第一公共電極和第二公共電極，所述第一公共電極設(shè)置于所述像素電極下方并通過絕緣層與所述像素電極隔開，所述第二公共電極與所述像素電極同層設(shè)置，所述像素電極為條狀電極，所述第二公共電極為條狀電極且與所述像素電極相互間隔排列。
2.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一公共電極為板狀電極。
3.如權(quán)利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述像素電極在所述基板上的投影記為第一投影，所述第一公共電極在所述基板上的投影記為第二投影，所述第一投影完全落入所述第二投影內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一公共電極為條狀電極。
5.如權(quán)利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述第一公共電極的寬度小于所述像素電極的寬度；所述像素電極在所述基板上的投影記為第一投影，所述第一公共電極在所述基板上的投影記為第二投影，所述第二投影完全落入所述第一投影內(nèi)。
6.如權(quán)利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述像素電極在所述基板上的投影記為第一投影，所述第一公共電極在所述基板上的投影記為第二投影，所述第一投影寬度方向的兩端區(qū)域分別與兩個(gè)相鄰第二投影的部分區(qū)域重合。
7.如權(quán)利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述第一公共電極的寬度大于相鄰的兩個(gè)像素電極之間開口的寬度。
8.如權(quán)利要求3、5或6所述的陣列基板，其特征在于，所述第一投影與第二投影重合區(qū)域的寬度為6μm-10μm。
9.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，每條所述像素電極和第二公共電極分別包括一體形成的兩部分電極，該兩部分電極之間具有一定夾角。
10.一種顯示器件，其特征在于，包括上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的陣列基板。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
