[發(fā)明專利]一種銅銦鎵硒薄膜太陽能電池吸收層的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210321786.8 | 申請日: | 2012-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN102856433B | 公開(公告)日: | 2016-11-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 魏愛香;劉軍;趙湘輝;招瑜;劉俊 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;C23C14/35 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102 | 代理人: | 林麗明 |
| 地址: | 510006 廣東省廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 銅銦鎵硒 薄膜 太陽能電池 吸收 制備 方法 | ||
1.一種銅銦鎵硒薄膜太陽能電池吸收層的制備方法,其特征在于其制備方法包括以下步驟:
(1)采用射頻磁控濺射技術(shù)在清洗干凈的玻璃襯底上制備金屬鉬背電極;
(2)采用射頻磁控濺射技術(shù),以銅銦合金靶和銅鎵合金靶為濺射靶材,以氬氣作為濺射氣體,采用雙靶交替濺射的方式,制備成Mo/CuGa/CuIn/CuGa/CuIn/CuGa/……CuIn/CuGa多層結(jié)構(gòu)的銅銦鎵金屬預(yù)制層;
(3)以固態(tài)硒粉為硒源,采用三步升溫硒化方式,對銅銦鎵預(yù)制層進(jìn)行硒化制備銅銦鎵硒薄膜太陽能電池吸收層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于上述步驟(1)中采用射頻磁控濺射技術(shù)制備鉬背電極的的工藝條件是:背底真空度1×10-3Pa?,濺射功率為150W;以99.99%的高純Mo為濺射靶材,以氬氣為濺射氣體,?首先在靠近玻璃襯底時采用濺射氣壓2Pa的條件下下,濺射10min,使生長的Mo薄膜與襯底有良好的附著力,然后把濺射氣壓調(diào)整為0.3Pa,?濺射30min,使所制備的Mo薄膜具有較高的電導(dǎo)率,形成符合太陽能電池器件質(zhì)量要求的Mo導(dǎo)電層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于上述步驟(2)中采用射頻磁控濺射技術(shù)制備多層結(jié)構(gòu)的銅銦鎵金屬預(yù)制層的方法是:以銅銦合金靶和銅鎵合金靶為濺射靶材,采用交替濺射CuIn和CuGa靶的方式制備Mo/CuGa/CuIn/CuGa/CuIn/CuGa/CuIn/CuGa多層結(jié)構(gòu)的銅銦鎵金屬預(yù)制層;CuIn層濺射功率40~60W、氬氣壓強為0.8~1.5Pa,濺射時間為10~20min;CuGa層濺射功率為40~60W、氬氣壓強為0.8~1.5Pa,濺射時間為5~10min。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于上述步驟(3)中采用固態(tài)硒粉為硒源,通過三步升溫硒化方式,用“硒薄膜法”對銅銦鎵預(yù)制層進(jìn)行硒化:首先在真空中蒸發(fā)0.5~1g硒粉,在銅銦鎵預(yù)制層上形成厚度是銅銦鎵預(yù)制層厚度的4~6倍的硒薄膜,然后在真空室加熱硒化:首先加熱到100°C恒溫15~25min,再升溫到260°C恒溫15~25min,然后再加熱到500~550°C恒溫30~40min,形成具有單一黃銅礦結(jié)構(gòu)的晶粒較大的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池吸收層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





