[發(fā)明專(zhuān)利]光學(xué)鄰近修正方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210312992.2
• 申請(qǐng)日: 2012-08-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103631084A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-03-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王輝
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中芯國(guó)際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F1/36
• 分類(lèi)號(hào): G03F1/36;G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

1.一種光學(xué)鄰近修正方法，其特征在于，包括：

提供測(cè)試掩模板，所述測(cè)試掩模板上形成有至少一個(gè)第一測(cè)試圖形；

以所述測(cè)試掩模板進(jìn)行曝光，形成與所述第一測(cè)試圖形相對(duì)應(yīng)的曝光圖形；

基于所述曝光圖形對(duì)第一測(cè)試圖形進(jìn)行調(diào)整以形成第二測(cè)試圖形，使所述第二測(cè)試圖形相對(duì)于第一測(cè)試圖形與曝光圖形更相近；

基于所述第二測(cè)試圖形與所述曝光圖形進(jìn)行修正。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鄰近修正方法，其特征在于，所述第一測(cè)試圖形為二維圖形。

3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鄰近修正方法，其特征在于，所述第一測(cè)試圖形包括直角，所述基于曝光圖形對(duì)第一測(cè)試圖形進(jìn)行調(diào)整形成第二測(cè)試圖形的步驟包括：將所述第一測(cè)試圖形中的直角調(diào)整為圓角。

4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鄰近修正方法，其特征在于，所述第一測(cè)試圖形包括直角，所述基于曝光圖形對(duì)第一測(cè)試圖形進(jìn)行調(diào)整形成第二測(cè)試圖形的步驟包括：將所述第一測(cè)試圖形中的直角對(duì)應(yīng)的直角三角形區(qū)域去除。

5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鄰近修正方法，其特征在于，所述基于所述第二測(cè)試圖形與所述曝光圖形進(jìn)行修正的步驟包括：

測(cè)量曝光圖形不同測(cè)試位置處的線寬；

依次比較不同測(cè)試位置處測(cè)量的線寬與對(duì)應(yīng)位置處第二測(cè)試圖形對(duì)應(yīng)寬度，獲得曝光圖形與所述第二測(cè)試圖形的相似度；

如果相似度大于或等于相似度閾值，則第二測(cè)試圖形符合設(shè)計(jì)規(guī)格，如果相似度小于相似度閾值，對(duì)第二測(cè)試圖形進(jìn)行修正。

6.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)鄰近修正方法，其特征在于，所述相似度閾值位于70%~95%的范圍內(nèi)。

7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鄰近修正方法，其特征在于，所述基于所述第二測(cè)試圖形與所述曝光圖形進(jìn)行修正的步驟包括：

提取曝光圖形的圖形輪廓，對(duì)圖形輪廓進(jìn)行多點(diǎn)采樣；

依次判斷每一采樣點(diǎn)與所述第二測(cè)試圖形對(duì)應(yīng)點(diǎn)相比是否通過(guò)校驗(yàn)；

在對(duì)所有采樣點(diǎn)完成校驗(yàn)之后，判斷符合校驗(yàn)的采樣點(diǎn)的數(shù)量與預(yù)設(shè)閾值的大小，如果符合校驗(yàn)的采樣點(diǎn)的數(shù)量大于或等于預(yù)設(shè)閾值，則第二測(cè)試圖形符合設(shè)計(jì)規(guī)格，如果符合校驗(yàn)的采樣點(diǎn)的數(shù)量小于預(yù)設(shè)閾值，對(duì)第二測(cè)試圖形進(jìn)行修正。

8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)鄰近修正方法，其特征在于，所述提取曝光圖形的圖形輪廓的步驟包括：通過(guò)電子顯微鏡對(duì)曝光圖形進(jìn)行掃描，形成曝光圖形形貌圖，基于圖形輪廓與曝光圖形形貌圖中其他位置的灰度的不同，對(duì)所述曝光圖形形貌圖進(jìn)行圖形輪廓的提取。

9.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)鄰近修正方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)閾值根據(jù)采樣點(diǎn)的數(shù)量和校驗(yàn)合格率閾值的乘積獲得。

10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)鄰近修正方法，其特征在于，所述校驗(yàn)合格率閾值位于70%~95%的范圍內(nèi)。