[發(fā)明專利]一種低阻力水平式樣品架機構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210308966.2
• 申請日: 2012-08-28
• 公開（公告）號: CN102830004A
• 公開（公告）日: 2012-12-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張赟
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江世紀(jì)康大醫(yī)療科技有限公司
• 主分類號: G01N1/36
• 分類號: G01N1/36;G01N1/30
• 代理公司: 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200
• 代理人: 杜軍

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于醫(yī)學(xué)樣本性質(zhì)判定，前處理專屬操作設(shè)備的相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種低阻力水平式樣品架機構(gòu)。

背景技術(shù)

?????病理學(xué)作為醫(yī)學(xué)體系的重要支撐，正為全人類的健康做出重大貢獻。作為病理學(xué)的重要組成部分，醫(yī)院病理組織切片染色工作，是將病理切片通過脫蠟、修復(fù)、染色、清洗等工序交替、反復(fù)實施完成該病理切片在醫(yī)學(xué)樣本性質(zhì)判定前的相關(guān)前期預(yù)處理；?它的標(biāo)準(zhǔn)化、人性化開展，更需要產(chǎn)品單位在構(gòu)建產(chǎn)品的過程中，積極主動的將標(biāo)準(zhǔn)化、人性化的理念充分的融入產(chǎn)品，以更好的服務(wù)于人類健康?，F(xiàn)有技術(shù)中的樣品架為統(tǒng)一加熱，使得染色過程繁冗、復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提出了一種低阻力水平式樣品架機構(gòu)。

本發(fā)明一種低阻力水平式樣品架機構(gòu)包括樣品架導(dǎo)向機構(gòu)、低阻力水平式樣品架。所述的樣品架導(dǎo)向機構(gòu)包括第一樣品架導(dǎo)向機構(gòu)和第二樣品架導(dǎo)向機構(gòu)，樣品架導(dǎo)向機構(gòu)的一個側(cè)面上設(shè)有滑槽，上端面開有廢液導(dǎo)向凹槽，廢液導(dǎo)向凹槽的一端設(shè)有第一通孔，第一通孔的上半段呈倒圓臺型，下半段呈圓柱型；所述的低阻力水平式樣品架下底面設(shè)有與樣品架導(dǎo)向機構(gòu)上的滑槽相匹配的滑槽蓋體，低阻力水平式樣品架上底面開有多個等間距且大小一致的長方體淺槽，每個淺槽內(nèi)的相同位置開有同樣大小的長方體通孔，淺槽的一端開有第二通孔，第二通孔的上半段呈半個倒圓臺型，下半段呈半個圓柱型，低阻力水平式樣品架在第二通孔外側(cè)開有長度與第二通孔最大直徑一致的長方體通孔。低阻力水平式樣品架靠淺槽的另一端開有一個與淺槽寬度一致的坡度槽，坡度槽外側(cè)的高度低于內(nèi)側(cè)高度。坡度槽的內(nèi)側(cè)高度高于淺槽高度，低阻力水平式樣品架下底面末端設(shè)有限位塊。

本發(fā)明的有益效果：分立核定裝載病理玻片，確保各個玻片間的彼此獨立；加熱狀態(tài)下，保證與輻射熱的等距間隔，協(xié)同確保滿足免疫組化染色儀批量裝載病理玻片的需求；引導(dǎo)免疫組化染色儀在染色過程中相應(yīng)廢液的收集。

附圖說明

圖1為本發(fā)明樣品架導(dǎo)向機構(gòu)的正視圖；

圖2為本發(fā)明樣品架導(dǎo)向機構(gòu)的俯視圖；

圖3為本發(fā)明低阻力水平式樣品架的正視圖；

圖4為本發(fā)明低阻力水平式樣品架AA截面圖；

圖5為本發(fā)明裝配完成后的圖。

具體實施方式

本發(fā)明一種低阻力水平式樣品架機構(gòu)包括樣品架導(dǎo)向機構(gòu)、低阻力水平式樣品架1。如圖1、2所示，樣品架導(dǎo)向機構(gòu)包括第一樣品架導(dǎo)向機構(gòu)2和第二樣品架導(dǎo)向機構(gòu)3，樣品架導(dǎo)向機構(gòu)的一個側(cè)面上設(shè)有滑槽4，上端面開有廢液導(dǎo)向凹槽5，廢液導(dǎo)向凹槽5的一端設(shè)有第一通孔6，第一通孔6的上半段呈倒圓臺型，下半段呈圓柱型；如圖3、4所示，所述的低阻力水平式樣品架1下底面設(shè)有與樣品架導(dǎo)向機構(gòu)上的滑槽4相匹配的滑槽蓋體7，低阻力水平式樣品架1上底面開有多個等間距且大小一致的長方體淺槽8，每個淺槽內(nèi)的相同位置開有同樣大小的長方體通孔9，淺槽的一端開有第二通孔10，第二通孔10的上半段呈半個倒圓臺型，下半段呈半個圓柱型，低阻力水平式樣品架1在第二通孔10外側(cè)開有長度與第二通孔最大直徑一致的長方體通孔11。低阻力水平式樣品架1靠淺槽8的另一端開有一個與淺槽寬度一致的坡度槽12，坡度槽外側(cè)的高度低于內(nèi)側(cè)高度。坡度槽的內(nèi)側(cè)高度高于淺槽高度，低阻力水平式樣品架下底面末端設(shè)有限位塊。

如圖5所示，在低阻力水平式樣品架1的淺槽8內(nèi)放置玻片，將低阻力水平式樣品架1的滑槽蓋體7插入第一樣品架導(dǎo)向機構(gòu)2和第二樣品架導(dǎo)向機構(gòu)3的滑槽4內(nèi)，推至低阻力水平式樣品架限位端，染色過程中相應(yīng)廢液通過分別坡度槽12或者第二通孔10至樣品架導(dǎo)向機構(gòu)上的凹槽5中。