[發(fā)明專利]一種光束的微小位移測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210301473.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-08-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103630075A | 公開(公告)日: | 2014-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張朝民;劉玲;曹麗杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海工程技術(shù)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01B11/02 | 分類號(hào): | G01B11/02 |
| 代理公司: | 上海科盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31225 | 代理人: | 葉敏華 |
| 地址: | 201620 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光束 微小 位移 測(cè)量方法 測(cè)量 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及物理光學(xué)領(lǐng)域,尤其是涉及一種光束的微小位移測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備。
背景技術(shù)
微小位移測(cè)量是實(shí)現(xiàn)精加工的前提和基礎(chǔ),也一直是物理領(lǐng)域人們熱衷研究的對(duì)象。對(duì)于光微小位移的測(cè)量,學(xué)科還處于技術(shù)發(fā)展階段,在國(guó)內(nèi)外尚未形成絕對(duì)的學(xué)科和技術(shù)優(yōu)勢(shì)。
目前國(guó)際上光微小位移的測(cè)量?jī)x器雖然精度較高,但操作復(fù)雜,并且測(cè)量精度較差,只能測(cè)量到幾百微米左右。
我們基于古斯-漢欣位移效應(yīng)的光束平移理論及方法,展開對(duì)微小位移的測(cè)量的研究。利用光的柱面反射推導(dǎo)出光微小位移計(jì)算公式,研究制作出的儀器,可將光微小位移精確測(cè)量微米級(jí),大大提高測(cè)量的精度,為一些高精度研究要求提供技術(shù)支持,在實(shí)驗(yàn)應(yīng)用上有著廣泛的發(fā)展前景。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷而提供一種測(cè)量精度更高、更簡(jiǎn)便的光束的微小位移測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備。
本發(fā)明的目的可以通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):
一種光束的微小位移測(cè)量方法,包括以下步驟:
(1)距離柱面鏡中心線所在平面垂直距離x0處的激光投射到柱面鏡上,通過柱面鏡反射到觀測(cè)屏上x1處;
(2)激光發(fā)射器移動(dòng)微小位dx后,距離步驟(1)所述的柱面鏡中心線所在平面垂直距離x0+dx處的激光投射到柱面鏡上,通過柱面鏡反射到觀測(cè)屏上x2處;
(3)由公式
一種實(shí)施光束的微小位移測(cè)量方法的測(cè)量設(shè)備,該設(shè)備包括激光發(fā)射器、三維移動(dòng)平臺(tái)、柱面鏡及觀測(cè)屏,所述的激光發(fā)射器設(shè)在三維移動(dòng)平臺(tái)上,所述的柱面鏡與激光發(fā)射器位于同一高度,所述的觀測(cè)屏位于激光發(fā)射器及柱面鏡的側(cè)面。
所述的柱面鏡設(shè)在支撐架上。
所述的柱面鏡為高反射率鍍膜柱面鏡。
該測(cè)量設(shè)備還包括壓縮光束裝置,所述的壓縮光束裝置位于柱面鏡與觀測(cè)屏之間。由于光線經(jīng)過反射后會(huì)變粗,影響測(cè)量精度,在反射光線經(jīng)過的途中添加一個(gè)壓縮光束裝置,減少由光線變粗帶來的誤差。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):
1、運(yùn)用反射法對(duì)待測(cè)光微小位移進(jìn)行放大處理,通過測(cè)量得到觀測(cè)屏上兩反射光間的距離,根據(jù)推導(dǎo)公式來獲取待測(cè)光微小位移的值,該方法可以獲取光微小位移,并且測(cè)量精度高;
2、裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作使用方便,整個(gè)過程清晰、直觀性強(qiáng),易于理解;
3、儀器造價(jià)低,可用于各高等院校實(shí)驗(yàn)室;
4、采用反射原理,所用光源為普通激光,對(duì)測(cè)量環(huán)境要求低;
5、檢修維護(hù)方便,本發(fā)明儀器各部分結(jié)構(gòu)層次分明,方便拆卸和更換;
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