[發明專利]一種電容式觸摸屏架橋結構制作方法有效
| 申請號： | 201210299478.X | 申請日： | 2012-08-21 |
| 公開（公告）號： | CN102855039A | 公開（公告）日： | 2013-01-02 |
| 發明（設計）人： | 汪敏潔;蔡漢業;朱景河;何基強 | 申請（專利權）人： | 信利半導體有限公司 |
| 主分類號： | G06F3/044 | 分類號： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 王寶筠 |
| 地址： | 516600 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 電容 觸摸屏 架橋 結構 制作方法 | ||
1.一種電容式觸摸屏架橋結構制作方法，其特征在于，包括：
在納米銦錫金屬氧化物ITO上，制作出在第一方向相互連通的基準圖形陣列，在垂直于所述第一方向的第二方向上，制作出相互隔斷的基準圖形陣列；
在第二方向上的基準圖形陣列的相互隔斷的區域設置絕緣層；
在所述絕緣層上鍍金屬膜；
采用負性光刻膠對所述金屬膜進行光刻；
對光刻后的所述金屬膜進行蝕刻，以便在第二方向將所述基準圖形陣列連通。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用負性光刻膠對所述金屬膜進行光刻，包括：
在待蝕刻金屬層上涂負性光刻膠；
在掩模板的遮擋下，對負性光刻膠涂層進行曝光；
將負性光刻膠涂層上的未曝光的可溶解區域用化學顯影劑溶解；
對曝光后的未溶解的負性光刻膠涂層進行主固化。
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，在所述在待蝕刻金屬層上涂負性光刻膠之前，還包括：
清洗上一工序殘留的光刻膠。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基準圖形陣列為菱形陣列。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用負性光刻膠對所述金屬膜進行光刻，包括：采用OC膠對所述金屬膜進行光刻。
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在第二方向上的基準圖形陣列的相互隔斷的區域設置絕緣層，包括：
在所述基準圖形陣列的第二方向上的相互隔斷的區域涂抹負性光刻膠，將曝光后固化的所述負性光刻膠，作為絕緣層。
7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，在所述基準圖形陣列的第二方向上的相互隔斷的區域涂抹的負性光刻膠為OC膠。
8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述絕緣層上鍍金屬膜，包括：在所述絕緣層上鍍包含鉬鋁鉬成分的金屬膜。
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