[發(fā)明專利]用于光學材料微區(qū)的非線性效應(yīng)所引起的折射率和雙折射變化的測量系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210295827.0
• 申請日: 2012-08-17
• 公開（公告）號: CN102998283A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 加塞克·加拉斯;達賴厄斯·利特溫;托馬斯·科茲洛夫斯基;塔德斯·克里斯汀斯基
• 申請（專利權(quán)）人: 應(yīng)用光學研究所
• 主分類號: G01N21/41
• 分類號: G01N21/41;G01N21/23
• 代理公司: 北京中安信知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11248
• 代理人: 張小娟

1.用于非線性效應(yīng)引起的折射率和雙折射的變化的測試系統(tǒng)，它包括飛秒激光，光子光纖以及光學系統(tǒng)，該光學系統(tǒng)包括分光元件、兩個光通道和干涉儀測量系統(tǒng)，特別是以位于從光學系統(tǒng)中產(chǎn)生的測量光束的光軸上的VAWI干涉儀的形式，其特征在于：第一光通道（KO1）包括具有形成測量光束的聚光器（K）的單色儀（MCR），并且該單色儀（MCR）在入口處連接至光子光纖（SF），以及第二光通道（KO2）包括具有改變在第二光通道（KO2）內(nèi)的第二光束的光程的帶可移動反射鏡（ZP）的反射鏡系統(tǒng)，其中，測試材料（M）被置于位于測量光束和通過光通道（KO2）傳輸?shù)牡诙馐慕徊嫣幍臏y量區(qū)域內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的系統(tǒng)，其特征在于：切斷第二光束激光的濾光器（F）置于測試材料（M）和VAWI干涉儀之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的系統(tǒng)，其特征在于：第一光通道（KO1）包括聚焦元件，特別地，以位于光子光纖（SF）輸入端面的第一透鏡（Ob1）的形式。

4.根據(jù)權(quán)利要求1的系統(tǒng)，其特征在于：第二光通道（KO2）包括在入口處配備有光學聚焦元件的第二光纖（SM），特別地，以第二透鏡（Ob2）的形式。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的系統(tǒng)，其特征在于：帶可移動反射鏡（ZP）的反射鏡系統(tǒng)包括位于分光元件（DW）和可移動反射鏡（ZP）之間的第二反射鏡（Z2），而可移動反射鏡（ZP）是兩個平面反射表面的直角系。