[發明專利]一種軟磁磁芯螺旋微電感的制作方法

有效

• 申請號: 201210290483.4
• 申請日: 2012-08-16
• 公開（公告）號: CN102789967A
• 公開（公告）日: 2012-11-21
• 發明（設計）人: 孔岑;周建軍;李輝;陳效建
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第五十五研究所
• 主分類號: H01L21/02
• 分類號: H01L21/02;H01F37/00;H01F41/00
• 代理公司: 南京君陶專利商標代理有限公司 32215
• 代理人: 沈根水;周曉梅

1.一種軟磁磁芯螺旋微電感的制作方法，其特征在于集成NiFe-AlO_x軟磁磁芯螺旋電感，包括如下工藝步驟：

1）制備電感下層金屬；

2）制備第一層苯并環丁烯BCB介質層；

3）制備NiFe-AlO_x薄膜；

4）制備第二層苯并環丁烯BCB介質層；

5）制備苯并環丁烯BCB介質通孔；

6）制備電感上層金屬。

2.如權利要求1所述的軟磁磁芯螺旋微電感的制作方法，其特征是工藝步驟1）?制備電感下層金屬：使用去離子水將基片清洗干凈，使用濺射工藝在基片上淀積電鍍種子層，使用光刻工藝勻膠、曝光、顯影，得到下層電鍍金屬圖形，使用電鍍工藝電鍍金屬，使用濕法刻蝕去除剩余的種子層金屬，使用泛曝光、顯影去除剩余光刻膠，得到螺旋電感下層金屬。

3.如權利要求1所述的軟磁磁芯螺旋微電感的制作方法，其特征是工藝步驟2）?制備第一層苯并環丁烯BCB介質層：使用勻膠工藝旋涂苯并環丁烯BCB介質，使用常規退火工藝固化苯并環丁烯BCB介質，具體為：在N₂氣氛中，由室溫升溫到270℃，升溫速率約為1~2℃/min，在270℃時保溫40~60分鐘，然后緩慢降溫至室溫，降溫速率約為1~2℃/min。

4.如權利要求1所述的軟磁磁芯螺旋微電感的制作方法，其特征是工藝步驟3）?制備NiFe-AlO_x薄膜：使用光刻工藝勻膠、曝光、顯影，得到磁芯圖形，使用濺射工藝淀積NiFe-AlO_x磁性薄膜，具體為：使用的靶材為Ni含量為60%的NiFe合金及純度為98%的Al₂O₃，濺射條件為：濺射前腔體真空小于1×10-3Pa；濺射在Ar氣體中進行，Ar氣壓力PAr為0.7~1Pa；NiFe使用直流功率源，濺射功率為25~50W；Al2O3使用射頻功率源，濺射功率為70~130W，NiFe與Al₂O₃交替濺射，得到Al₂O₃/NiFe/?Al₂O₃/NiFe/Al₂O₃/NiFe/?Al₂O₃/NiFe/?Al₂O₃結構的磁性薄膜，薄膜總厚度為385~425nm，使用剝離工藝，得到圖形化的NiFe-AlO_x磁性薄膜。

5.如權利要求1所述的軟磁磁芯螺旋微電感的制作方法，其特征是工藝步驟4）?制備第二層苯并環丁烯BCB介質層：使用勻膠工藝旋涂苯并環丁烯BCB介質，使用常規退火工藝固化苯并環丁烯BCB，具體為：在N₂氣氛中，由室溫升溫到270℃，升溫速率約為1~2℃/min，在270℃時保溫40~60分鐘，然后緩慢降溫至室溫，降溫速率約為1~2℃/min。

6.如權利要求1所述的軟磁磁芯螺旋微電感的制作方法，其特征是工藝步驟5）?制備苯并環丁烯BCB通孔：使用光刻工藝勻膠、曝光、顯影，得到苯并環丁烯BCB介質通孔圖形，使用電感耦合等離子ICP刻蝕技術刻蝕苯并環丁烯BCB，使用丙酮、乙醇去除剩余光刻膠。

7.如權利要求1所述的軟磁磁芯螺旋微電感的制作方法，其特征是工藝步驟6）?制備電感上層金屬：使用濺射工藝在基片上淀積電鍍種子層，使用光刻工藝勻膠、曝光、顯影，得到下層電鍍金屬圖形，使用電鍍工藝電鍍金屬，使用泛曝光、顯影去除剩余光刻膠，使用濕法刻蝕去除剩余的種子層金屬，得到螺旋電感上層金屬。