[發明專利]用于顯示裝置的陣列基板及其制造方法

有效

• 申請號: 201210287676.4
• 申請日: 2012-08-13
• 公開（公告）號: CN102955308A
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發明（設計）人: 南承熙;柳洵城;文泰亨;李揆煌;宋泰俊
• 申請（專利權）人: 樂金顯示有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1368;H01L27/02;H01L29/786;H01L21/77
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國

1.一種用于顯示裝置的陣列基板，所述用于顯示裝置的陣列基板包括：

基板；

柵線，所述柵線沿第一方向形成在所述基板上；

數據線，所述數據線沿第二方向形成在所述基板的上方，其中所述數據線與所述柵線彼此交叉以限定像素區域；

薄膜晶體管，所述薄膜晶體管形成在所述像素區域中，并且具有漏極、與所述柵線連接的柵極以及與所述數據線連接的源極；

像素電極，所述像素電極形成在所述像素區域中，并且與所述漏極連接；

第一輔助柵極圖案，所述第一輔助柵極圖案形成在所述柵線的上方并且與所述柵線接觸；以及

第一輔助數據圖案，所述第一輔助數據圖案形成在所述數據線的上方并且與所述數據線接觸。

2.根據權利要求1所述的用于顯示裝置的陣列基板，進一步包括：

柵絕緣層，所述柵絕緣層覆蓋所述柵線和所述柵極，并且在所述數據線的下方；

鈍化層，所述鈍化層形成在所述數據線和所述柵絕緣層上；

第一接觸孔，所述第一接觸孔形成在所述鈍化層和所述柵絕緣層中，并且沿所述第一方向暴露所述柵線；以及

第二接觸孔，所述第二接觸孔形成在所述鈍化層中，并且沿所述第二方向暴露所述數據線，

其中所述第一輔助柵極圖案形成在所述第一接觸孔中；并且所述第一輔助數據圖案形成在所述第二接觸孔中。

3.根據權利要求2所述的用于顯示裝置的陣列基板，進一步包括漏極接觸圖案，其中所述鈍化層進一步形成在所述漏極上并包括漏極接觸孔，所述漏極接觸圖案形成在所述漏極接觸孔中并且接觸所述漏極，而所述像素電極覆蓋并接觸所述漏極接觸圖案。

4.根據權利要求1所述的用于顯示裝置的陣列基板，進一步包括：

第二輔助柵極圖案，所述第二輔助柵極圖案形成在所述第一輔助柵極圖案上，以覆蓋、接觸和保護所述第一輔助柵極圖案；以及

第二輔助數據圖案，所述第二輔助數據圖案形成在所述第一輔助數據圖案上，以覆蓋、接觸和保護所述第一輔助數據圖案。

5.根據權利要求4所述的用于顯示裝置的陣列基板，其中所述第二輔助柵極圖案和所述第二輔助數據圖案是由與所述像素電極相同的材料形成的。

6.根據權利要求1或2所述的用于顯示裝置的陣列基板，其中所述第一輔助柵極圖案和所述第一輔助數據圖案是通過覆鍍法形成的。

7.根據權利要求3所述的用于顯示裝置的陣列基板，其中所述漏極接觸圖案、所述第一輔助柵極圖案和所述第一輔助數據圖案是通過覆鍍法形成的。

8.根據權利要求1或2所述的用于顯示裝置的陣列基板，其中所述第一輔助柵極圖案和所述第一輔助數據圖案由銅、鉻或鎳形成。

9.根據權利要求3所述的用于顯示裝置的陣列基板，其中所述漏極接觸圖案、所述第一輔助柵極圖案和所述第一輔助數據圖案由銅、鉻或鎳形成。

10.根據權利要求1、2或3所述的用于顯示裝置的陣列基板，其中所述第一輔助數據圖案是沿所述數據線一體形成的。

11.根據權利要求3所述的用于顯示裝置的陣列基板，進一步包括：

公共線，所述公共線形成在相鄰的柵線之間，并且與所述柵線平行，其中所述柵絕緣層進一步覆蓋所述公共線；

電容電極，所述電容電極形成在所述公共線的上方，其中彼此交疊的所述電容電極和所述公共線與在所述電容電極和所述公共線之間的所述柵絕緣層一起形成存儲電容器；以及

電容接觸圖案，

其中所述鈍化層進一步形成在所述電容電極上，并且所述鈍化層包括電容接觸孔，所述電容接觸圖案形成在所述電容接觸孔中并且接觸所述電容電極，并且所述像素電極覆蓋并接觸所述電容接觸圖案。

12.根據權利要求11所述的用于顯示裝置的陣列基板，其中所述漏極接觸圖案、所述第一輔助柵極圖案、所述第一輔助數據圖案和所述電容接觸圖案是通過覆鍍法形成的。

13.根據權利要求11所述的用于顯示裝置的陣列基板，其中所述漏極接觸圖案、所述第一輔助柵極圖案、所述第一輔助數據圖案和所述電容接觸圖案由銅、鉻或鎳形成。