[發明專利]一種等離子割炬噴嘴

無效

• 申請號: 201210287589.9
• 申請日: 2012-08-13
• 公開（公告）號: CN102744507A
• 公開（公告）日: 2012-10-24
• 發明（設計）人: 陳麗華
• 申請（專利權）人: 常州機電職業技術學院
• 主分類號: B23K10/00
• 分類號: B23K10/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種等離子割炬，尤其涉及一種等離子割炬噴嘴。

背景技術

等離子割炬的噴嘴是切割槍的主要消耗部件之一，它的壽命的長短直接關系到切割質量和生產效率。如圖1所示，現有普通的噴嘴主要利用銅和銅基材料來加工等離子割炬的噴嘴，先在電極和噴嘴之間引燃非轉移型電弧，然后電弧通過孔道轉移到工件，電弧通過孔道后受到壓縮，使等離子弧的能量和密度都大大提高。如果工作電流過大，一部分的電弧能量傳到噴嘴孔道壁面，使噴嘴的溫度升高，很容易在電極、噴嘴和工件形成雙弧，大大降低了噴嘴的使用壽命，同時切割過程的中斷又會降低切割質量和生產效率。

中國專利文獻（ZL200410082549.6）公開了一種等離子焊炬可裝卸的噴嘴結構，含有冷卻水的給水管、冷卻水的排水管、配置在噴射孔周圍的環狀水路和使所述給水管和所述環狀水路、所述排水管和所述環狀水路分別獨立并進行連接的多條連接水路。上述等離子焊炬用噴嘴中，從冷卻水的給水路供給的冷卻水，經過連接水路被引導到環狀水路中，并在充分冷卻了噴嘴的等離子電弧的噴射孔的周圍之后，經過另外的連接水路而從冷卻水配水管排出。即使用連接水路和環狀水路，能夠使冷卻水形成從供給路至排出路的流動，可對噴嘴進行充分的冷卻，雖然提高了噴嘴的使用壽命，但并沒有很好的解決在電極、噴嘴和工件形成雙弧的問題。

發明內容

本發明目的是提供一種避免形成雙弧，同時具有氣冷和水冷的等離子割炬的噴嘴。

為實現上述發明目的，本發明技術方案如下：一種等離子割炬噴嘴，包括噴嘴殼體，所述殼體包括下部均為曲面的噴嘴外壁和噴嘴內壁、連接所述噴嘴外壁和噴嘴內壁的縮孔道、密封所述噴嘴外壁和所述噴嘴內壁的蓋板、相對布置在所述蓋板上的1對冷卻介質入口和冷卻介質出口；所述等離子割炬噴嘴還包括設置在噴嘴內壁內部的環形裝置，所述環形裝置的頂部和底部分別設有上邊緣和下邊緣，所述上邊緣和下邊緣分別設有進氣孔和出氣孔。

進一步的，所述出氣孔的軸線與所述噴嘴底部曲面的切線相平行。

優選的，所述出氣孔的軸線與環形裝置的軸線呈45°。

優選的，所述上邊緣和下邊緣分別設有不少于3個進氣孔和出氣孔；所述蓋板上的冷卻介質入口和冷卻介質出口可設置2～3對。

優選的，所述冷卻介質入口和冷卻介質出口的直徑不小于3mm；環形裝置的高度不小于3mm。

采用本發明后可避免在電極、噴嘴和工件之間形成雙弧的可能性，同時具有氣冷和水冷的噴嘴結構，冷卻效果好、使用壽命長及切割性能穩定。

附圖說明

圖1為現有普通等離子割炬的噴嘴。

圖2為本發明的三維立體外觀結構。

圖中：1-1.冷卻介質入口；1-2.冷卻介質出口；1-3.蓋板。

圖3為本發明的剖面結構示意圖。

圖中：1.殼體；1-4.噴嘴外壁；1-5.噴嘴內壁；1-6.縮孔道；2.環形裝置。

圖4為本發明的環形裝置結構示意圖。

圖中：?2-1.進氣孔；2-2.上邊緣；2-3.下邊緣；2-4.出氣孔。

具體實施方式

如圖2～4所示，一種等離子割炬噴嘴，包括噴嘴殼體1，所述殼體包括下部均為曲面的噴嘴外壁1-4和噴嘴內壁1-5、連接所述噴嘴外壁1-4和噴嘴內壁1-5的縮孔道1-6、密封所述噴嘴外壁1-4和所述噴嘴內壁1-5的蓋板1-3、相對布置在所述蓋板1-3上的1對冷卻介質入口1-1和冷卻介質出口1-2；所述等離子割炬噴嘴還包括設置在噴嘴內壁1-5內部的環形裝置2，所述環形裝置2的頂部和底部分別設有上邊緣2-2和下邊緣2-3，所述上邊緣2-2和下邊緣2-3分別設有進氣孔2-1和出氣孔2-4。

進一步的，所述出氣孔2-4的軸線與所述噴嘴1-5底部曲面的切線相平行，使得冷卻氣體在噴嘴內壁1-5形成層流。

優選的，所述出氣孔2-4的軸線與環形裝置2的軸線呈45°，使得冷卻氣體在噴嘴內壁1-5形成以近似層流的狀態流動。

優選的，所述上邊緣2-2和下邊緣2-3分別設有不少于3個進氣孔2-1和出氣孔2-4；所述蓋板1-3上的冷卻介質入口1-1和冷卻介質出口1-2可設置2～3對。進氣孔2-1、出氣孔2-4、冷卻介質入口1-1和冷卻介質出口1-2數量越多，加工難度越大；數越少，冷卻氣體在噴嘴內壁1-5形成層流的效果越差，起不到層流保護作用。