[發明專利]一種高溫抗氧化銥基納米晶復合涂層及其制備方法

無效

• 申請號: 201210279046.2
• 申請日: 2012-08-08
• 公開（公告）號: CN103572210A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發明（設計）人: 陳照峰;吳王平
• 申請（專利權）人: 蘇州宏久航空防熱材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/14
• 分類號: C23C14/14;C23C14/34;C23C14/35
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1.一種高溫抗氧化復合涂層，其特征在于該涂層分為兩層，內層由銥組成，表層由銥基合金組成，其中銥涂層厚度為1μm?~5?μm，銥基合金涂層厚度為10μm?~20?μm。

2.根據權利要求書1所述的復合涂層，其特征在于涂層中的合金元素為鈦、鈮、釩、鋯、鉿、鉭、釔、鋁、鎢、銠、鉑中的一種或多種。

3.根據權利要求書1所述的復合涂層，其特征在于涂層中的合金以單質和/或金屬間化合物形式存在。

4.一種高溫抗氧化銥基納米晶復合涂層的制備方法，其特征在于在基體材料的表面制備雙層結構的復合涂層；首先在基體材料的表面制備一層納米晶銥涂層；然后在銥涂層的表面制備一層銥基納米晶涂層，其中銥含量為50?at.%~95?at.%，余量為合金元素。

5.根據權利要求書4所述的制備方法，其特征在于制備銥涂層采用物理氣相沉積和化學氣相沉積方法。

6.根據權利要求書5所述的制備方法，其特征在于內層銥涂層所采用的物理氣相沉積是雙層輝光等離子表面改性、激光脈沖沉積、磁控濺射或電子束物理氣相沉積。

7.根據權利要求書5所述的制備方法，其特征在于內層銥涂層所采用的化學氣相沉積是激光化學氣相沉積或金屬基化學氣相沉積。

8.據權利要求書4所述的制備方法，其特征在于制備銥基合金涂層采用的方法是物理氣相沉積。

9.根據權利要求書8所述的制備方法，其特征在于銥基涂層所采用的物理氣相沉積是磁控濺射或電子束物理氣相沉積。

10.根據權利要求書4或5或8所述的制備方法，其特征在于制備銥涂層所采用的方法是雙層輝光等離子表面改性；在銥涂層上制備銥基涂層所采用的方法是磁控濺射。