[發明專利]用于大視場X射線相襯成像的X射線源

有效

• 申請號: 201210265909.0
• 申請日: 2012-07-30
• 公開（公告）號: CN102768931A
• 公開（公告）日: 2012-11-07
• 發明（設計）人: 黃建衡;杜楊;牛憨笨;郭金川;劉鑫;林丹櫻
• 申請（專利權）人: 深圳大學
• 主分類號: H01J35/08
• 分類號: H01J35/08;H01J35/06
• 代理公司: 深圳市順天達專利商標代理有限公司 44217
• 代理人: 易釗

1.一種用于大視場X射線相襯成像的X射線源，包括用于發射電子束的電子源和響應于電子束入射而發射X射線的陽極靶，其特征在于，所述陽極靶為一體結構的柱體，所述陽極靶頂端設有發射面，所述發射面由多個呈階梯狀排布且相互平行的傾斜發射面單元組成；相鄰的所述發射面單元之間的階梯間側壁與陽極靶發射面之間的夾角α為50°-120°，且該階梯間側壁與陽極靶發射面的主光軸之間的夾角β為大于等于90°。

2.根據權利要求1所述的用于大視場X射線相襯成像的X射線源，其特征在于，多個所述發射面單元在陽極靶發射面的主光軸的垂直方向上的投影形成一個連續的整體。?

3.根據權利要求1所述的用于大視場X射線相襯成像的X射線源，其特征在于，多個所述發射面單元在陽極靶發射面的主光軸的垂直方向上的投影是間隔平行排布的，相鄰所述發射面單元的投影之間的間隙為10-70微米。?

4.根據權利要求1所述的用于大視場X射線相襯成像的X射線源，其特征在于，所述發射面單元之間設有間隔槽。?

5.根據權利要求4所述的用于大視場X射線相襯成像的X射線源，其特征在于，所述間隔槽的側壁與陽極靶的發射面之間的夾角為50°-120°。?

6.根據權利要求4所述的用于大視場X射線相襯成像的X射線源，其特征在于，所述間隔槽的深度為30-300微米、寬度為10-70微米。

7.根據權利要求4所述的用于大視場X射線相襯成像的X射線源，其特征在于，所述間隔槽的槽底為平面或弧面。

8.根據權利要求1所述的用于大視場X射線相襯成像的X射線源，其特征在于，所述發射面與X射線出射窗中心和陽極靶發射面中心連線之間的夾角θ為5°-30°。

9.根據權利要求1所述的用于大視場X射線相襯成像的X射線源，其特征在于，所述發射面單元的橫向寬度為50-200微米，發射面單元的長度為0.5-2毫米，相鄰發射面單元之間的高度差為15-70微米。

10.根據權利要求9所述的用于大視場X射線相襯成像的X射線源，其特征在于，所述射面單元的橫向寬度為50-150微米，發射面單元的長度為0.6-1.5毫米，相鄰發射面單元之間的高度差為15-50微米。