[發明專利]用于KDP晶體搬運和位置調整的真空吸附裝置

有效

• 申請號: 201210265804.5
• 申請日: 2012-07-30
• 公開（公告）號: CN102765601A
• 公開（公告）日: 2012-11-07
• 發明（設計）人: 戴一帆;關朝亮;鐵貴鵬;李圣怡;尹自強
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍國防科學技術大學
• 主分類號: B65G47/91
• 分類號: B65G47/91
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務所 43008
• 代理人: 趙洪

1.一種用于KDP晶體搬運和位置調整的真空吸附裝置，包括吸盤（2）和抽真空部件（1），其特征在于：所述吸盤（2）的一端設有用來與KDP晶體（4）表面貼合的平整吸附面（21），所述吸附面（21）上開設有與抽真空部件（1）連通的導氣槽（22）。

2.根據權利要求1所述的用于KDP晶體搬運和位置調整的真空吸附裝置，其特征在于：所述導氣槽（22）包括多個同軸布置且直徑不同的環形槽（221）。

3.根據權利要求2所述的用于KDP晶體搬運和位置調整的真空吸附裝置，其特征在于：所述吸盤（2）上開設有一個以上沿環形槽（221）徑向布置且與抽真空部件（1）連通的調節氣孔（23），所述調節氣孔（23）的內壁上開設有與環形槽（221）數量相同的導氣孔（24），每個導氣孔（24）對應連通一個環形槽（221），所述調節氣孔（23）中設有能夠沿調節氣孔（23）軸向移動并將所到之處的導氣孔（24）封堵的調節件（5）。

4.根據權利要求3所述的用于KDP晶體搬運和位置調整的真空吸附裝置，其特征在于：所述調節件（5）為螺絲，所述調節氣孔（23）的內壁上開設有與螺絲配合的內螺紋。

5.根據權利要求3或4所述的用于KDP晶體搬運和位置調整的真空吸附裝置，其特征在于：所述吸盤（2）的側面開設有環繞吸盤（2）四周的工藝槽（25），所述工藝槽（25）將吸盤隔成連接端（28）和吸附端（29），所述吸附面（21）設于吸附端（29）上。

6.根據權利要求5所述的用于KDP晶體搬運和位置調整的真空吸附裝置，其特征在于：所述連接端（28）開設一與調節氣孔（23）連通的螺紋孔（26），所述抽真空部件（1）通過帶螺紋接頭的抽氣軟管（6）與螺紋孔（26）螺紋連接。

7.根據權利要求6所述的用于KDP晶體搬運和位置調整的真空吸附裝置，其特征在于：所述連接端（28）連接一帶把手（31）的吸盤支座（3），所述連接端（28）沿著所述工藝槽（25）開設有用來通過緊固件與吸盤支座（3）連接的緊固件安裝孔（281），所述吸附端（29）對應緊固件安裝孔（281）的位置處開設有可使螺紋件穿過的操作孔（27）。

8.根據權利要求7所述的用于KDP晶體搬運和位置調整的真空吸附裝置，其特征在于：所述吸盤支座（3）上對應所述螺紋孔（26）的位置處開設有供抽氣軟管（6）穿過的工藝孔（32）。

9.根據權利要求1或2或3或4所述的用于KDP晶體搬運和位置調整的真空吸附裝置，其特征在于：所述吸附面（21）具有亞微米級的平面度和鏡面的表面粗糙度。

10.根據權利要求1或2或3或4所述的用于KDP晶體搬運和位置調整的真空吸附裝置，其特征在于：所述抽真空部件（1）為真空發生器。