[發(fā)明專利]抗蝕劑組合物和用于生產(chǎn)抗蝕圖案的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210251310.1 | 申請(qǐng)日: | 2012-07-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102890417A | 公開(公告)日: | 2013-01-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 市川幸司;安立由香子;藤田真吾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 住友化學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G03F7/004 | 分類號(hào): | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 李新紅 |
| 地址: | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 抗蝕劑 組合 用于 生產(chǎn) 圖案 方法 | ||
1.一種抗蝕劑組合物,所述抗蝕劑組合物包含:
具有由式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元的樹脂,
在堿性水溶液中不可溶或難溶但是通過(guò)酸的作用變得可溶于堿性水溶液并且不包含由式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元的樹脂,和
由式(II)表示的酸生成劑,
其中R1表示氫原子或甲基;
A1表示C1至C6烷二基;
R2表示具有氟原子的C1至C10烴基;
其中RII1和RII2獨(dú)立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基;
LII1表示單鍵、C1至C6烷二基、C4至C8二價(jià)脂環(huán)烴基、-(CH2)t-CO-O-*或-(CH2)t-CO-O-CH2-(CH2)u-*,所述烷二基、-(CH2)t-CO-O-*或-(CH2)t-CO-O-CH2-(CH2)u-*中含有的一個(gè)或多個(gè)-CH2-可以被-O-代替,t表示1至12的整數(shù),u表示0至12的整數(shù),*表示與YII1的連接;
YII1表示任選被取代的C3至C18脂環(huán)烴基,并且所述脂環(huán)烴基中含有的一個(gè)或多個(gè)-CH2-可以被-O-、-CO-或-SO2-代替;
RII3、RII4、RII5、RII6和RII7獨(dú)立地表示氫原子、羥基、C1至C6烷基、C1至C6烷氧基、C2至C7烷氧基羰基或C2至C12酰氧基,
陽(yáng)離子的含硫環(huán)中所含有的一個(gè)或多個(gè)-CH2-可以被-O-或-CO-代替;
n表示1至3的整數(shù);
s表示0至3的整數(shù);并且
RII8在每一次出現(xiàn)時(shí)均獨(dú)立地表示C1至C6烷基。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物,所述抗蝕劑組合物還包含由式(III)表示的酸生成劑;
其中RIII1和RIII2獨(dú)立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基;
LIII1表示單鍵或C1至C17二價(jià)飽和烴基,所述飽和烴基中的一個(gè)或多個(gè)氫原子可以被氟原子或羥基代替,并且所述飽和烴基中含有的一個(gè)或多個(gè)-CH2-可以被-O-或-CO-代替;
YIII1表示任選被取代的C1至C18烷基或任選被取代的C3至C18脂環(huán)烴基,并且所述烷基和脂環(huán)烴基中含有的一個(gè)或多個(gè)-CH2-可以被-O-、-CO-或-SO2-代替;并且
Z+表示有機(jī)陽(yáng)離子。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的抗蝕劑組合物,其中式(III)中的Z+是三芳基锍陽(yáng)離子。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物,其中式(I)中的A1是1,2-亞乙基。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
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