[發明專利]一種減小小晶粒ZSM-5分子篩孔徑的方法

無效

• 申請號: 201210250673.3
• 申請日: 2012-07-19
• 公開（公告）號: CN102745717A
• 公開（公告）日: 2012-10-24
• 發明（設計）人: 蔣煜;張海榮;楊智文;葛曉東;苗育青;陶遜;常曉華;方娜;李永梅
• 申請（專利權）人: 大同煤礦集團有限責任公司
• 主分類號: C01B39/40
• 分類號: C01B39/40;B01J29/40
• 代理公司: 太原科衛專利事務所(普通合伙) 14100
• 代理人: 朱源

1.一種減小小晶粒ZSM-5分子篩孔徑的方法，其特征在于：將鋁源、添加劑(A)和模板劑(T)配成溶液，混合均勻后加入硅源，使各組份的摩爾比SiO₂:Al₂O₃：T:?A:H₂O=(40～500):1:(10～80):(大于0～10):(100～2000)，在室溫攪拌均勻后在100～200℃條件下晶化6～72小時，晶化完成后冷卻、離心分離、洗滌后干燥即得產物，其中，添加劑(A)是氟化鈉、氟化銨、氟硅酸鈉、氟硅酸鉀和冰晶石中的一種或多種的組合。

2.根據權利要求１所述的方法，其特征在于：模板劑是四丙級氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、乙二胺、正丁胺和己二胺中的一種或多種的組合。

3.根據權利要求１所述的方法，其特征在于：所述的硅源是正硅酸乙酯、硅溶膠、硅酸鈉、白炭黑和硅酸中的一種或多種的組合。

4.根據權利要求１所述的方法，其特征在于：所述的鋁源是偏鋁酸鈉、硫酸鋁、硝酸鋁、氫氧化鋁、擬薄水合鋁和異丙醇鋁中的一種或多種的組合。

5.根據權利要求１、２、３或４所述的方法，其特征在于：晶化溫度為130～170℃、晶化時間為12～36小時。