[發明專利]使第二維度梯度適應實際第一維度條件的偏移二維分離

有效

• 申請號: 201210237370.8
• 申請日: 2012-07-09
• 公開（公告）號: CN102866216B
• 公開（公告）日: 2016-11-09
• 發明（設計）人: 克勞斯·威特
• 申請（專利權）人: 安捷倫科技有限公司
• 主分類號: G01N30/06
• 分類號: G01N30/06
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258
• 代理人: 柳春雷

1.一種樣品分離裝置的控制裝置，所述樣品分離裝置用于分離流體樣品，所述樣品分離裝置包括第一分離單元和第二分離單元，所述第一分離單元可被供應待分離的流體樣品，所述第二分離單元在所述第一分離單元的下游并且可被供應經所述第一分離單元處理之后的流體樣品，其中，所述控制裝置被構造成：

控制所述第一分離單元在測量時間段內執行初級分離序列，以將所述流體樣品分離成多個分部；

控制所述第二分離單元在所述測量時間段內執行多個次級分離序列，以將經分離的多個分部的至少一部分進一步分離成多個子分部，其中，這些次級分離序列形成共用樣品分離方法的一部分，所述共用樣品分離方法由包括一組參數的、對樣品分離的共用規范來限定；

隨著所述初級分離序列的進展，調節至少一個參數，所述多個次級分離序列中的至少一者是根據所述至少一個參數來執行的。

2.根據權利要求1所述的控制裝置，其中，對所述共用樣品分離方法的共用規范包括：

參數化的形狀關系，它是對這些次級分離序列中的至少兩個序列一致地限定的，特別是對這些次級分離序列中全部的序列；和

發展指令，其隨著第一分離序列的進展而限定用于這些次級分離序列中的所述至少兩個序列的形狀關系的參數，特別是這些次級分離序列中全部的序列。

3.根據權利要求2的控制裝置，其中，所述發展指令包括由下列項構成的群組中的一項：

發展關系，特別是發展函數，所述發展關系限定參數的發展；和

用于發展數據庫中存儲的參數的漸進參數值；和

根據此前的分析分離所得的數據所計算的樣品特定形狀和進展。

4.根據權利要求1所述的控制裝置，其中，所述初級分離序列形成與所述次級分離序列相同的共用樣品分離方法的一部分。

5.根據權利要求1所述的控制裝置，其中，所述控制裝置構造成調節至少一個參數，以使得作為所述多個次級分離序列的梯度運行執行偏移，特別是連續偏移，而另一梯度運行作為所述初級分離序列來執行。

6.根據權利要求1所述的控制裝置，其中，所述多個次級分離序列和所述初級分離序列當中的至少一者與色譜法梯度運行有關。

7.根據權利要求1所述的控制裝置，其中，所述多個次級分離序列中的至少一者被參數化，其中，根據預定進展規則，相應參數的至少一部分隨著所述初級分離序列的進展而被調節。

8.根據權利要求1所述的控制裝置，其中，所述多個次級分離序列中的至少兩個序列，特別是每個序列，與被限定為梯度曲線的參數化的形狀關系有關，所述梯度曲線從第一局部極值開始、隨后升高或降低到第二局部極值、然后降低或升高到下一個第一局部極值，其中，這些參數化的梯度曲線的相應參數的至少一部分隨著所述初級分離序列的進展而被調節。

9.根據權利要求8所述的控制裝置，其中，所述控制裝置構造成使得所述第一局部極值被調節成對于所述多個次級分離序列中的不同序列而言不同，特別是沿著相繼的所述多個次級分離序列而連續增大或連續減小。

10.根據權利要求8所述的控制裝置，其中，所述初級分離序列與下述參數化的形狀關系有關：該形狀關系被限定為從第一局部極值開始、隨后升高或降低到第二局部極值、然后降低或升高到第一局部極值的梯度曲線。

11.根據權利要求1所述的控制裝置，包括確定單元，所述確定單元被構造成確定二維繪圖，所述二維繪圖表示所述流體樣品沿著第一維度分離成多個分部、并且用于表示所分離的多個分部沿著第二維度分離成多個子分部。

12.根據權利要求11所述的控制裝置，其中，所述控制裝置被構造成調節所述至少一個參數以增加均一性程度，所述子分部是根據所述均一性程度在所述二維繪圖的二維區域上分布的。

13.根據權利要求11所述的控制裝置，其中，所述控制裝置被構造成調節所述至少一個參數，以在所述二維繪圖的二維區域上均等地分布這些子分部。

14.根據權利要求11所述的控制裝置，其中，所述控制裝置被構造成確定表征在所述二維繪圖的二維區域上與這些子分部有關的峰值的至少一個局部低密度區域的信息，并且被構造成調節所述至少一個參數，以使得由于此調節而引起峰值的密度在所述二維繪圖的所述至少一個局部低密度區域中增大。