[發明專利]壓敏性粘接片的制造方法及其裝置無效
| 申請號: | 201210236212.0 | 申請日: | 2012-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN102863923A | 公開(公告)日: | 2013-01-09 |
| 發明(設計)人: | 中島淳;山根圣久 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | C09J7/02 | 分類號: | C09J7/02;C09J4/00 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓敏性粘接片 制造 方法 及其 裝置 | ||
1.一種壓敏性粘接片的制造方法,其使涂敷在支承體上的光聚合性組合物層發生聚合反應而得到壓敏性粘接劑層,其中,
上述方法包括以下過程:
在密閉連結的用于向支承體涂敷光聚合性組合物的涂敷部和用于向涂敷之后的光聚合性組合物層照射光的光照射部中,在該涂敷部中的支承體的入口側設置至少1個非活性氣體供給部件,朝向支承體吹出非活性氣體。
2.根據權利要求1所述的壓敏性粘接片的制造方法,其中,
上述非活性氣體供給部件是腔室,在該腔室內持續填充非活性氣體。
3.根據權利要求1所述的壓敏性粘接片的制造方法,其中,
在上述腔室內向與支承體的輸送方向相反朝向的斜方向對該支承體吹出非活性氣體而形成朝向入口的排氣流。
4.根據權利要求1所述的壓敏性粘接片的制造方法,其中,
向上述涂敷部和光照射部的密閉空間內填充非活性氣體。
5.根據權利要求4所述的壓敏性粘接片的制造方法,其中,
使上述涂敷部和光照射部的密閉空間的內部壓力高于腔室的內部壓力。
6.根據權利要求1所述的壓敏性粘接片的制造方法,其中,
從比在上述涂敷部和光照射部的密閉空間內輸送的、光聚合性組合物的涂敷面朝上的支承體的位置低的位置,供給非活性氣體。
7.根據權利要求1所述的壓敏性粘接片的制造方法,其中,
將在上述光照射部中輸送的支承體的背面冷卻。
8.根據權利要求7所述的壓敏性粘接片的制造方法,其中,
使在冷卻輥內被冷卻的非活性氣體循環之后,將該非活性氣體供給到涂敷部和光照射部;該冷卻輥與上述支承體的背面接觸。
9.一種壓敏性粘接片的制造裝置,其使涂敷在支承體上的光聚合性組合物發生聚合反應而得到壓敏性粘接劑層,其中,
上述裝置包括以下構造:
至少1個非活性氣體供給部件,其用于朝向輸送來的上述支承體吹出非活性氣體;
涂敷部,其與上述非活性氣體供給部件連結地配備,用于在密閉空間內向支承體涂敷光聚合性組合物;
光照射部,其與上述涂敷部連結地配備,用于在密閉空間內向涂敷在支承體上的光聚合性組合物層照射光;
回收部,其用于回收在上述光照射部中形成有壓敏性粘接劑層的支承體。
10.根據權利要求9所述的壓敏性粘接片的制造裝置,其中,
上述裝置還包括以下構造:
非活性氣體供給部件,其用于向上述涂敷部和光照射部的密閉空間內供給非活性氣體的。
11.根據權利要求10所述的壓敏性粘接片的制造裝置,其中,
上述非活性氣體供給部件構成為,使在冷卻輥內被冷卻的非活性氣體循環之后,將該非活性氣體供給到上述涂敷部和光照射部的密閉空間內;該冷卻輥與在光照射部中輸送的支承體的背面接觸。
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