[發明專利]高純電鍍級硫酸銅除鈣鎂工藝有效
| 申請號： | 201210235281.X | 申請日： | 2012-07-09 |
| 公開（公告）號： | CN102730744A | 公開（公告）日： | 2012-10-17 |
| 發明（設計）人： | 薛克艷;莊永;趙中華;金梁云;姚明輝 | 申請（專利權）人： | 昆山市千燈三廢凈化有限公司 |
| 主分類號： | C01G3/10 | 分類號： | C01G3/10 |
| 代理公司： | 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215341 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 高純 電鍍 硫酸銅 工藝 | ||
1.高純電鍍級硫酸銅除鈣鎂工藝，其特征在于該工藝包括以下步驟：
（1）將酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液分別壓濾，除去機械雜質；
（2）分別對酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液進行除鉛砷工藝；
（3）攪拌下，用堿性溶液調節酸性蝕刻廢液的pH；
（4）對酸性蝕刻廢液用NaF進行除鈣、鎂工藝；
（5）對堿性蝕刻廢液用NaF進行除鈣、鎂工藝；
（6）將反應完成之后的酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液沉降，過濾；
（7）中和酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液；
（8）陳化，過濾；
（9）洗滌；
（10）酸化；
（11）冷卻結晶。
2.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鈣鎂工藝，其特征在于：所述步驟（3）中堿性溶液為Na2CO3或?NaOH?溶液，調節酸性蝕刻廢液的pH為3.0～4.0。
3.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鈣鎂工藝，其特征在于：所述步驟（4）中使用NaF去除酸性蝕刻廢液中的鈣鎂；NaF的加入量為鈣、鎂總含量的1.5～2.0倍。
4.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鈣鎂工藝，其特征在于：所述步驟（5）中使用NaF去除堿性蝕刻廢液中的鈣鎂；NaF的加入量為鈣、鎂總含量的1.5～2.0倍。
5.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鈣鎂工藝，其特征在于：所述步驟（6）中酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液的中和后維持pH在4.7~5.2之間。
6.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鈣鎂工藝，其特征在于：所述步驟（9）中洗滌采用打漿洗滌的方式，洗滌水采用純水；洗滌次數不少于2次。
7.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鈣鎂工藝，其特征在于：所述步驟（10）中采用濃硫酸酸化。
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