[發明專利]一種用于鎂電解槽的加熱裝置及加熱方法無效
| 申請號: | 201210213234.5 | 申請日: | 2012-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN102747388A | 公開(公告)日: | 2012-10-24 |
| 發明(設計)人: | 黃子良;杜曉林;王國慶;蔡洪賓;蘭光銘 | 申請(專利權)人: | 攀鋼集團鈦業有限責任公司 |
| 主分類號: | C25C7/00 | 分類號: | C25C7/00;C25C7/06;C25C3/04 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 譚昌馳 |
| 地址: | 617000 四川省*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 電解槽 加熱 裝置 方法 | ||
1.一種用于鎂電解槽的加熱裝置,其特征在于,所述加熱裝置包括一對或多對防短路加熱電極,每對防短路加熱電極中的一根防短路電極連接至交流電源正極,每對防短路加熱電極中的另一根防短路電極連接至交流電源負極。
2.根據權利要求1所述的用于鎂電解槽的加熱裝置,其特征在于,所述加熱裝置的一對或多對防短路加熱電極通過鎂電解槽上方的電解槽蓋的開口固定、安裝在鎂電解槽上并插入鎂電解槽中。
3.根據權利要求2所述的用于鎂電解槽的加熱裝置,其特征在于,所述防短路電極長期或臨時安裝在鎂電解槽上。
4.根據權利要求1所述的用于鎂電解槽的加熱裝置,其特征在于,所述防短路加熱電極包括電極本體和包覆在電極本體上的電絕緣層,所述電絕緣層包覆電極本體與鎂電解槽中液體金屬鎂相接觸的部分外周表面,電絕緣層的包覆上緣線高于鎂電解槽中液體金屬鎂的最高液位并且電絕緣層的包覆下緣線低于鎂電解槽中液體金屬鎂的最低液位。
5.根據權利要求4所述的用于鎂電解槽的加熱裝置,其特征在于,所述電絕緣層能夠耐高溫氯鹽熔體的沖刷、腐蝕并且耐高溫氯氣的腐蝕。
6.根據權利要求4所述的用于鎂電解槽的加熱裝置,其特征在于,所述電極本體為鋼制方電極或鋼制圓柱電極。
7.根據權利要求4所述的用于鎂電解槽的加熱裝置,其特征在于,所述電絕緣層為經直接包覆而形成的絕緣陶瓷層或絕緣耐火材料預制件層,或者為經涂覆后烘干而形成的絕緣耐火澆注料層。
8.一種鎂電解槽中熔體的加熱方法,其特征在于,所述加熱方法采用權利要求1至7中任一項所述的加熱裝置對鎂電解槽中的熔體進行直接加熱。
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