[發明專利]一種寬帶隙多異質結隧穿結結構無效
| 申請號: | 201210207237.8 | 申請日: | 2012-06-21 |
| 公開(公告)號: | CN102709349A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發明(設計)人: | 單智發;張永;蔡建九;陳凱軒;林志偉 | 申請(專利權)人: | 廈門乾照光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0352 | 分類號: | H01L31/0352;H01L31/0304 |
| 代理公司: | 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203 | 代理人: | 李寧;唐紹烈 |
| 地址: | 361000 福建省廈*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 寬帶 隙多異質結隧穿結 結構 | ||
1.一種寬帶隙多異質結隧穿結結構,其特征在于:由四個功能層組成;第一功能層具有第一帶隙和第一型摻雜;第二功能層具有第二帶隙和第一型摻雜,且帶隙小于第一帶隙;第三功能層具有第三帶隙和第二型摻雜;第四功能層具有第四帶隙和第二型摻雜,且帶隙大于第三帶隙。
2.根據權利要求1所述的一種寬帶隙多異質結隧穿結結構,其特征在于:位于外層的第一功能層和第四功能層,其帶隙2.20eV≤Eg≤2.50eV。
3.根據權利要求2所述的一種寬帶隙多異質結隧穿結結構,其特征在于:第一功能層和第四功能層的組成成分為(AlyGa1-y)1-xInxP或(AlyGa1-y)1-xInxAs,其中In的組分0≤x≤0.85,Al的組分0.50≤y≤1.00,各組分含量以摩爾比計,薄膜厚度為20-100nm。
4.根據權利要求2所述的一種寬帶隙多異質結隧穿結結構,其特征在于:第一功能層和第四功能層的摻雜濃度為5×1018-5×1020cm-3。
5.根據權利要求1所述的一種寬帶隙多異質結隧穿結結構,其特征在于:位于內層的第二功能層和第三功能層,其帶隙1.80eV≤Eg≤2.20eV。
6.根據權利要求5所述的一種寬帶隙多異質結隧穿結結構,其特征在于:第二功能層和第三功能層的組成成分為(AlyGa1-y)1-xInxP或(AlyGa1-y)1-xInxAs,其中In的組分0≤x≤0.85,Al的組分0≤y<0.50,各組分含量以摩爾比計,薄膜厚度為10-20nm。
7.根據權利要求5所述的一種寬帶隙多異質結隧穿結結構,其特征在于:第二功能層和第三功能層的摻雜濃度為5×1018-5×1020cm-3。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廈門乾照光電股份有限公司,未經廈門乾照光電股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210207237.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種下一代數據保護系統的訪問控制方法
- 下一篇:一種安全控制器
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





