[發(fā)明專利]噴墨移印工藝

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210204493.1
• 申請日: 2012-06-20
• 公開（公告）號: CN102673208A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 崔宗杰
• 申請（專利權(quán)）人: 聯(lián)志玩具禮品（東莞）有限公司
• 主分類號: B41M5/00
• 分類號: B41M5/00
• 代理公司: 東莞市冠誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44272
• 代理人: 蔡邦華

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及印刷工藝，特別是涉及噴墨移印工藝。

背景技術(shù)

???平板打印機(jī)是一種“與物體非接觸”的噴墨印刷型高科技數(shù)碼印制設(shè)備，可在任何材料表面進(jìn)行彩色圖案，印刷打樣快，是一次印刷完成，用萬能打印機(jī)可印制任何材質(zhì)及不規(guī)則軟、硬性物體，比如金屬，陶瓷，水晶，玻璃，壓克力，PVC，塑料，玩具，皮革，U盤，布料，木質(zhì)，硅膠，宣紙等。無論是簡單的塊色圖案，全彩色圖案或是具有過度色的圖案，都能一次印刷完成，無需制版、無需曬版和重復(fù)套色，色彩靚麗，效果逼真，圖像防水，防曬，耐磨損附著力強(qiáng)?，不褪色，機(jī)器操作簡易、性能穩(wěn)定，創(chuàng)造出比傳統(tǒng)方式更高的印刷質(zhì)量，但限制產(chǎn)品和噴頭的距離不多于5.0mm，限制了平板打印機(jī)的使用。

傳統(tǒng)的移印工藝，通過鋼板刻印到膠頭上，再通過膠頭印刷在需印刷的物體上。傳統(tǒng)的移印工藝需要制版，制作過程復(fù)雜，而且制作出來的圖案效果不好，尤其是在需印刷的物品凹凸不平時。

發(fā)明內(nèi)容

????為解決上述問題，本發(fā)明提供了噴墨移印工藝，制作過程簡單，圖案色彩靚麗，效果逼真，能夠在凹凸不平的印刷物打印。

本發(fā)明所采取的技術(shù)方案是：噴墨移印工藝，包括平板打印和轉(zhuǎn)印；

平板打印，通過計算機(jī)設(shè)計好所需打印的初始圖案利用平板打印機(jī)將油墨打印到印頭上，在印頭上形成中間圖案；

轉(zhuǎn)印，在轉(zhuǎn)印時間內(nèi)將印頭接到移印機(jī)上，通過移印機(jī)將印頭下壓到印刷物上，把油墨印到印刷物上，最終圖案形成在印刷物上。

在上述技術(shù)方案中，噴墨主要成分為樹脂20%、色素17%、溶劑60%和添加劑3%。

在上述技術(shù)方案中，初始圖案為最終圖案的鏡像反向圖案。

在上述技術(shù)方案中，印頭為平面硅膠頭，印頭直徑比初始圖案直徑大于3mm。

在上述技術(shù)方案中，印頭與印刷物的擠壓深度不得高過印頭的高度1/3。

在上述技術(shù)方案中，轉(zhuǎn)印時間為3-10秒。

本發(fā)明的有益效果是：上述的噴墨移印工藝，使用平板打印機(jī)打印，無需制版、無需曬版和重復(fù)套色，色彩靚麗，效果逼真，機(jī)器操作簡易、性能穩(wěn)定，創(chuàng)造出比傳統(tǒng)方式更高的印刷質(zhì)量；再通過平面硅膠頭移印，平面硅膠頭，由于平面硅膠印頭是有彈性，它可以將初始圖案完全地打印在凹凸不平的印刷物表面上，打破了平板打印機(jī)限制印刷物和平板打印機(jī)噴頭的距離不多于5.0mm。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的流程圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。

圖1示意性地顯示了根據(jù)本發(fā)明的一種實(shí)施方式的噴墨移印工藝。

該噴墨移印工藝，包括平板打印和轉(zhuǎn)印；

平板打印，通過計算機(jī)設(shè)計好所需打印的初始圖案，設(shè)計出的初始圖案為最終圖案的鏡像反向圖案，利用平板打印機(jī)將油墨打印到印頭上，噴墨主要成分為樹脂20%、色素17%、溶劑60%和添加劑3%，在印頭上形成中間圖案，印頭為平面硅膠頭，印頭直徑比初始圖案直徑大3mm；

轉(zhuǎn)印，在轉(zhuǎn)印時間5秒內(nèi)將印頭平移接到移印機(jī)上，通過移印機(jī)將印頭橫移到印刷物上，垂直平面下壓到印刷物上，當(dāng)印刷物為凹凸不平形狀時，由于印頭為平面硅膠印頭，印頭下壓變形，印頭與印刷物的擠壓深度不得高過印頭的高度1/3，油墨與印刷物的黏力較強(qiáng)能把油墨印到印刷物上，最終圖案形成在印刷物上，使用后需清潔印頭。

在一些實(shí)施方式中，印頭直徑比初始圖案直徑大于3mm，轉(zhuǎn)印時間為3-10秒。

以上的實(shí)施例只是在于說明而不是限制本發(fā)明，故凡依本發(fā)明專利申請范圍所述的方法所做的等效變化或修飾，均包括于本發(fā)明專利申請范圍內(nèi)。