[發(fā)明專利]一種基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模同步優(yōu)化方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210199783.1
• 申請日: 2012-06-18
• 公開（公告）號: CN102707582A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬旭;李艷秋;韓春營;董立松
• 申請（專利權(quán)）人: 北京理工大學(xué)
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/76
• 代理公司: 北京理工大學(xué)專利中心 11120
• 代理人: 李愛英;楊志兵

1.一種基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模同步優(yōu)化方法，其特征在于，具體步驟為：

步驟101、將光源初始化為大小為N_S×N_S的光源圖形J，將掩模圖形M初始化為大小為N×N的目標(biāo)圖形其中N_S和N為整數(shù)；

步驟102、設(shè)置初始光源圖形J上發(fā)光區(qū)域的像素值為1，不發(fā)光區(qū)域的像素值為0；設(shè)定N_S×N_S的變量矩陣Ω_S：當(dāng)J(x_s，y_s)＝1時(shí)，當(dāng)J(x_s，y_s)＝0時(shí)，其中J(x_s，y_s)表示光源圖形上各像素點(diǎn)(x_s，y_s)的像素值；設(shè)置初始掩模圖形M上開口部分的透射率為1，阻光區(qū)域的透射率為0；設(shè)定N×N的變量矩陣Ω_M：當(dāng)M(x，y)＝1時(shí)，當(dāng)M(x，y)＝0時(shí)，其中M(x，y)表示掩模圖形上各像素點(diǎn)(x，y)的透射率；

步驟103、將目標(biāo)函數(shù)D構(gòu)造為目標(biāo)圖形與當(dāng)前光源圖形和掩模圖形對應(yīng)的光刻膠中成像之間的歐拉距離的平方，即其中為目標(biāo)圖形各像素點(diǎn)的像素值，Z(x，y)表示利用Abbe矢量成像模型計(jì)算當(dāng)前光源圖形和掩模圖形對應(yīng)的光刻膠中成像各像素點(diǎn)的像素值；

步驟104、計(jì)算目標(biāo)函數(shù)D對于變量矩陣Ω_S的梯度矩陣將光源圖形上各像素點(diǎn)的像素值之和J_sum近似為給定常數(shù)，得到梯度矩陣的近似值計(jì)算目標(biāo)函數(shù)D對于變量矩陣Ω_M的梯度矩陣

步驟105、利用最陡速降法更新變量矩陣Ω_S，更新Ω_S為其中為預(yù)先設(shè)定的光源優(yōu)化步長，獲取對應(yīng)當(dāng)前Ω_S的光源圖形J，J(xs,ys)=12[1+cosΩS(xs,ys)];]]>

利用最陡速降法更新變量矩陣Ω_M，更新Ω_M為其中為預(yù)先設(shè)定的掩模優(yōu)化步長，獲取對應(yīng)當(dāng)前Ω_M的掩模圖形M，獲取對應(yīng)當(dāng)前M的二值掩模圖形M_b，t_m為預(yù)定參量；

步驟106、計(jì)算當(dāng)前光源圖形J和二值掩模圖形M_b對應(yīng)的目標(biāo)函數(shù)D的值；當(dāng)該值小于預(yù)定閾值或者更新變量矩陣Ω_S和Ω_M的次數(shù)達(dá)到預(yù)定上限值時(shí)，進(jìn)入步驟107，否則返回步驟104；

步驟107，終止優(yōu)化，并將當(dāng)前光源圖形J和掩模圖形M_b確定為經(jīng)過優(yōu)化后的光源圖形和掩模圖形。