[發明專利]一種氟化物熔鹽體系共電沉積制備高鋯Mg-RE-Zr中間合金的方法

在審

• 申請號: 201210198900.2
• 申請日: 2012-06-07
• 公開（公告）號: CN103484899A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發明（設計）人: 張小聯;鄭鑫;方玲;朱衛花;彭光懷
• 申請（專利權）人: 贛南師范學院
• 主分類號: C25C3/36
• 分類號: C25C3/36;C25C7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種氟化物熔鹽體系共電沉積制備高鋯Mg-RE-Zr中間合金的方法，其特征在于：(1)以市售的純度大于95％RE203(稀土主要為釔、釓、鉺、富釔等的氧化物)、Zr02和MgO為生產原料；以市售相應REF3-LiF為電解熔鹽介質，REF3、LiF純度均大于96％。(2)以共電沉積方式，依靠中間合金與熔鹽介質的比重差，讓中間合金最后收集了位于電解槽底部的承接坩堝中。

2.一種氟化物熔鹽體系共電沉積制備高鋯Mg-RE-Zr中間合金的方法，其特征在于：采用共電沉積熔鹽電解的制備方法。

3.一種氟化物熔鹽體系共電沉積制備高鋯Mg-RE?Zr中間合金的方法，其特征在于：采用交流電加熱使電解質熔化，電解工作溫度為：920—1150℃，電解槽為園型或方形。

4.一種氟化物熔鹽體系共電沉積制備高鋯Mg-RE-Zr中間合金的方法，其特征在于：單槽電解工作電流為2000-10000A之間。

5.根據權利要求1書1中所述的氟化物熔鹽為REF3-LiF，重量百分比為70-90％：30-10％。

6.根據權利要求1中所述的的承接坩堝：圓形電解槽底的坩堝為直徑為10-15cm圓形坩堝；方型電解槽底部的坩堝為方型坩堝或半園柱型坩堝。

7.根據權利要求1中所敘的圓形槽體采用一體式的園筒狀石墨槽，方型槽采用石墨塊，陽極糊等材料經加壓、加熱等工序制作而成。

8.根據權利要求2中所敘的槽體為敞口，槽體外圍依次鋪設約50-200mm的耐火磚，50300mm的保溫棉或者保溫磚。

9.根據權利要求2中所敘的電解槽：在槽體上部1/5為耐火材料與散熱材料，以強化散熱。

10.根據權利要求2中所敘的電解槽：在槽休下部1/5較大量使用保溫材料，以強化槽體的下部的保溫性能，提高合金與熔體的流動性，避免合金的凝固，提高稀土氧化物在熔體中的溶解度與熔體傳質。

11.根據權利要求2中所敘的電解槽，其陰極在于：圓形采用單根直徑為50-80mm的棒狀上插式陰極；方型采用2-4根50-80mm的棒狀上插式并排陰極，材料為W或者Mo。

12.根據權利要求2中所敘的電解槽，其陽極在于：以石墨做陽極，

圓型槽體采用園弧狀陽極，方型槽體采用塊狀多陽極。