[發明專利]光刻投影物鏡有效
| 申請號： | 201210195607.0 | 申請日： | 2010-03-23 |
| 公開（公告）號： | CN102707414A | 公開（公告）日： | 2012-10-03 |
| 發明（設計）人： | 武珩;黃玲 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | G02B13/18 | 分類號： | G02B13/18;G02B13/22;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京連和連知識產權代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光輝 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 投影 物鏡 | ||
1.??一種光刻投影物鏡，把掩模的圖像聚焦成像在基底上，從掩模開始包括沿著光軸依次設置的：
具有正光焦度的第一透鏡組；
具有正光焦度的第二透鏡組；
孔徑光闌AS；
具有正光焦度的第三透鏡組，相對于孔徑光闌與第二透鏡組對稱；
具有正光焦度的第四透鏡組，相對于孔徑光闌與第一透鏡組對稱；
第一透鏡組將來自掩模的光線會聚至第二透鏡組，第一透鏡組包含四個光焦度依次為負、負、正、正的透鏡，第一透鏡、第二透鏡組成具有負光焦度的子透鏡組G1-1n；
第二透鏡組收集從第一透鏡組出射的光線，準直后出射至第三透鏡組，第二透鏡組包含四個光焦度依次為負、正、負、正的透鏡，第一透鏡和第二透鏡組成具有正光焦度的第一子透鏡組G2-1p，第三透鏡和第四透鏡組成具有負光焦度的第二子透鏡組G2-2n。
2.根據權利要求1所述的光刻投影物鏡，其中，光刻投影物鏡的放大倍率為近似1x。
3.根據權利要求2所述的光刻投影物鏡，其中，光刻投影物鏡的帶寬為400納米到440納米。
4.根據權利要求2所述的光刻投影物鏡，其中，第一透鏡組的第一透鏡為雙凹透鏡，第二透鏡為第一面為非球面且凹面面向掩模的彎月式透鏡，第三透鏡為凹面面向掩模的彎月透鏡，第四透鏡為雙凸透鏡；第二透鏡組的第一透鏡是凹面面向硅片的彎月透鏡，第二透鏡是雙凸透鏡，第三透鏡為凹面面向硅片的彎月透鏡，第四透鏡是凹面面向硅片的正光焦度的彎月透鏡。
5.根據權利要求4所述的光刻投影物鏡，其中，第一透鏡組的第一透鏡由低色散材料構成，第三透鏡由高色散材料構成，第四透鏡由高色散材料構成；第二透鏡組的第一透鏡由高色散材料構成，第二透鏡由低色散材料構成，第三透鏡由高色散材料構成，第四透鏡由低色散材料構成。
6.根據權利要求1-6中任意一個所述的光刻投影物鏡，其中，
所述的光刻投影物鏡滿足以下關系式：
0.10<f1/?f2<0.30?????????????????(3－1)
-0.85<?fG1-1n?/?f1<?-1.15??????????(3－2)
0.10<?fG2-1p?/?f2<?0.25????????????(3－3)
?1.9<?Vel71?/?Vel73<?2.55????????(3－4)
2.10<?Vel71?/?Ve74<?2.60????????????(3－5)
0.30<?Vel75?/?Ve76<?0.50????????????(3－6)
0.35<?Vel77?/?Ve78<?0.45????????????(3－7)
其中，f1是第一透鏡組的焦距，f2是第二透鏡組的焦距，fG1-1n是第一透鏡組的子透鏡組?G1-1n的焦距，fG2-1p是第二透鏡組第一子透鏡組?G2-1p的焦距，Vel71?和Vel73?是第一透鏡組的第一透鏡和第三透鏡的阿貝數，Vel74是第一透鏡組的第四透鏡的阿貝數，Vel75和Vel76是第二透鏡組的第一透鏡和第二透鏡的阿貝數，Vel77和Vel78是第二透鏡組的第三透鏡和第四透鏡的阿貝數。
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