[發(fā)明專利]半導(dǎo)體封裝件及其制法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210192571.0 | 申請日: | 2012-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN103426855A | 公開(公告)日: | 2013-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蕭惟中;林俊賢;白裕呈;洪良易;孫銘成;唐紹祖;蔡瀛洲;藍(lán)章益 | 申請(專利權(quán))人: | 矽品精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/498 | 分類號: | H01L23/498;H01L23/31;H01L21/56;H01L21/683 |
| 代理公司: | 北京戈程知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;王錦陽 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 封裝 及其 制法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體封裝件及其制法,特別是關(guān)于一種提升可靠度的半導(dǎo)體封裝件及其制法。
背景技術(shù)
隨著行動裝置于電子產(chǎn)業(yè)中的蓬勃發(fā)展,電子產(chǎn)品也逐漸邁向薄型化的趨勢,而半導(dǎo)體封裝件的高度包括用以包覆芯片的封裝膠體的厚度、基板厚度及錫球高度。為了滿足半導(dǎo)體封裝件微型化(miniaturization)的封裝需求,降低封裝基板厚度已成為半導(dǎo)體封裝件微型化其中一個重要的發(fā)展方向。
早期半導(dǎo)體封裝件的制法中,是以具有核心層的封裝基板提升整體結(jié)構(gòu)的剛性,以利于后續(xù)置晶與封裝工藝。然而,因封裝基板具有核心層,所以該封裝基板的厚度增加,導(dǎo)致整體封裝結(jié)構(gòu)的高度增加,而難以符合微小化的需求。
因此,遂發(fā)展出無核心層(coreless)的封裝基板,以達(dá)到微小化的需求。請參閱第7795071號美國專利或如圖1A至圖1C所示現(xiàn)有半導(dǎo)體封裝件1的制法的剖面示意圖。
如圖1A所示,于一承載件(圖略)上形成一無核心層(coreless)的封裝基板1a,再移除該承載件。該封裝基板1a包含一絕緣保護(hù)層14與一埋設(shè)于該絕緣保護(hù)層14中的線路層13,該線路層13的下表面與該絕緣保護(hù)層14的表面齊平,且該絕緣保護(hù)層14具有開孔140,以令該線路層13的部分上表面外露于該些開孔140。
如圖1B所示,置放至少一芯片17于該絕緣保護(hù)層14下側(cè),且該芯片17借由導(dǎo)電凸塊170電性連接該線路層13。
如圖1C所示,形成一表面處理層12于該開孔140中的線路層13上。
然而,現(xiàn)有半導(dǎo)體封裝件1的制法中,依該封裝基板1a的薄型化設(shè)計,雖可省去核心層的材料成本及形成開孔140的制作時間,但該封裝基板1a的厚度越薄,其剛性越小,所以隨著薄化的需求,該封裝基板1a已不具有足夠的剛性作承載之用,致使于后續(xù)置晶或封裝工藝時,該封裝基板1a容易碎裂,導(dǎo)致產(chǎn)品的良率不佳,而影響產(chǎn)品的可靠度。
此外,當(dāng)移除承載件后,薄型化的封裝基板1a容易發(fā)生翹曲,致使該線路層13與絕緣保護(hù)層14間發(fā)生脫層的問題,因而需將封裝基板1a作廢,以致材料成本的浪費。
因此,如何克服上述現(xiàn)有技術(shù)的種種問題,實已成目前亟欲解決的課題。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的主要目的在于提供一種半導(dǎo)體封裝件及其制法,以使該封裝基板可朝薄型化作設(shè)計,且不會發(fā)生碎裂或翹曲的情況。
本發(fā)明的半導(dǎo)體封裝件包括:封裝基板,其包含絕緣保護(hù)層與埋設(shè)于該絕緣保護(hù)層中的線路層,該線路層具有相對的第一表面與第二表面,且該線路層包含第一子線路層、第二子線路層與第三子線路層,其中,該線路層的第一表面外露于該絕緣保護(hù)層,又該絕緣保護(hù)層具有至少一開孔,以令該線路層的部份第二表面外露于該開孔;芯片,其設(shè)于該封裝基板上,且電性連接該線路層的第一表面;以及封裝膠體,其形成于該封裝基板上,且包覆該芯片,并外露該開孔。
本發(fā)明還提供一種半導(dǎo)體封裝件的制法,其包括:形成線路層于第一承載板上,該線路層具有相對的第一表面與第二表面,且該線路層的第一表面與該第一承載板結(jié)合;形成絕緣保護(hù)層于該第一承載板與該線路層上,且于該絕緣保護(hù)層上形成有至少一開孔,以令該線路層的部份第二表面外露于該開孔;結(jié)合第二承載板于該絕緣保護(hù)層上;移除該第一承載板,以外露該線路層的第一表面與該絕緣保護(hù)層;置放芯片于該絕緣保護(hù)層上,且電性連接該芯片與線路層的第一表面;形成封裝膠體于該絕緣保護(hù)層與該線路層的第一表面上,以包覆該芯片;以及移除該第二承載板。
前述的制法中,形成該第一及第二承載板的材質(zhì)可為玻璃纖維板(FR4)、玻璃或金屬。
前述的制法中,該線路層還包括第一子線路層、第二子線路層與第三子線路層。
前述的半導(dǎo)體封裝件及其制法中,該線路層的第一表面可齊平于該絕緣保護(hù)層的表面。
前述的半導(dǎo)體封裝件及其制法中,該絕緣保護(hù)層可為防焊層或封裝膠材。
另外,前述的半導(dǎo)體封裝件及其制法中,依該線路層的材質(zhì)結(jié)構(gòu),選擇性形成表面處理層或金屬層。
例如,該第一子線路層為金或銀,該第二子線路層為鎳,且該第三子線路層為銅,所以該線路層的第二表面上形成有表面處理層,且該表面處理層的材質(zhì)為金或銀。
或者,該第一子線路層為金,該第二子線路層為鎳,且該第三子線路層為鈀,所以該線路層的第二表面上形成有金屬層,該金屬層的材質(zhì)為銅,且選擇性形成表面處理層于該金屬層上,且該表面處理層的材質(zhì)為錫、銀、鎳、鈀、金、焊錫、無鉛焊錫或其組合的其中一者。
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