[發明專利]對基體進行旋轉涂布的裝置

有效

• 申請號: 201210180725.4
• 申請日: 2012-05-31
• 公開（公告）號: CN102861701B
• 公開（公告）日: 2017-01-18
• 發明（設計）人: 皮爾明·馬夫勒
• 申請（專利權）人: 半太陽能股份有限公司
• 主分類號: B05C11/08
• 分類號: B05C11/08
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司11019
• 代理人: 壽寧,張華輝

技術領域

本發明涉及一種用于對基體進行旋轉涂布的裝置、應用和方法。?

背景技術

由現有技術已知多種不同的用于對基體進行旋轉涂布的裝置。特別是在半導體技術中已知用于向基體上施加光感漆(Fotolack)的旋轉涂布機或旋涂機。這種旋轉涂布機或旋涂機也稱為“涂層機(Coater)”。晶片或玻璃片或類似部件用作基體。對于這種情況特別可以參考EP?1?743?220A1。?

在現有技術中記載的用于對基體進行旋轉涂布的裝置描述了一種旋涂機，所述旋涂機具有可旋轉的基體盤，用于水平地放置基體，還具有覆蓋單元，用于在通過基體保持件的旋轉來散布液態介質的過程中覆蓋基體，其中，基體保持件與覆蓋單元能夠密封地拼裝。基體保持件具有周圍設置的通孔，經由所述通孔由覆蓋單元和基體保持件構成的涂布內腔保持與外部連通，與周圍設置的通孔間隔開地設有沿徑向對置的壁段，其中在旋轉涂布期間通孔相對于壁段發生相對運動。?

然而，在由現有技術記載的裝置中，不存在相互分離的轉盤和基體盤。相反，在現有技術中，被稱為基體保持件的區域一體地成形。但目前一般較為常見的是，現有技術的基體保持件分成兩部分，即一個基體盤和一個轉盤，以便能夠響應制造過程中的不同要求。以這種方式例如可以更換基體盤，這又使得相同的裝置適于制造不同尺寸的待制造的基體。然而，通過將現有技術的基體保持件分成基體盤和轉盤，會出現不希望的吸入和渦流現象，這是因為在轉盤下方存在的帶有相應地不希望的顆粒的空氣由于在轉盤和基體盤之間的涂布內腔的內部中的負壓而被吸入涂布內腔中。這種所不希望的空氣從轉盤的下部區域例如通過旋轉軸進入轉盤和基體盤之間的中間空間中，所述旋轉軸驅動轉盤，?也驅動基體盤。除了旋轉軸，應使得基體盤正確地在轉盤上定位的所謂定位元件也會導致不希望的顆粒通過轉盤和基體盤之間的中間空間被吸入涂布內腔中。當轉盤和覆蓋單元之間密封地封閉時，所述通孔會導致，在轉盤和基體盤之間打開通路，因為基體盤在很小的范圍中從轉盤上松脫。由于這種松脫又會有位于轉盤下方的不希望的顆粒通過旋轉軸的通路或者附著在定位元件區域中的顆粒被吸入涂布內腔中。所述顆粒又沉降到液態介質上并損害所形成的產品的質量。此外，由于不希望的吸入現象會出現氣流不可預測的轉向，所述氣流此時不再被導入通孔，而是不協調地分布在涂布內腔中。此外，在現有技術中記載的具有分開的基體盤和轉盤的布置結構中會出現不利的狀況，即由于不希望地引入的空氣，還可能通過在涂布內腔中出現的不希望的氣墊使得現有技術中已知的蓋子略微抬起，這會導致附加的渦流。?

發明內容

本發明的目的在于，提供一種用于對基體進行旋轉涂布的裝置，該裝置克服了現有技術中已知的缺點。在這種情況下特別應避免，在涂布內腔出現不希望的吸入現象。這有對基體制造的質量和成本支出起積極影響。對于具有相應較大生產率的批量制造過程特別重要的是，液態介質、例如光感漆盡可能均勻地施加到基體上。這應與基體的尺寸或直徑無關地進行。由現有技術還已知旋轉涂布機或旋涂機，其中使用覆蓋單元。該覆蓋單元下降到待涂布的基體上。由此在基體或所施加的液態介質上應產生溶劑墊，這在旋轉過程中使得漆層更好地分布。沒有覆蓋部，會發生液體介質的不希望的“干燥”，這當然對所制造的產品的質量產生不利影響。?

發明目的的解決方案?

本發明所要求保護的裝置、應用和方法用于實現所述目的。?