[發明專利]一種中溫無腐蝕鋁釬劑及其制備方法有效
| 申請號: | 201210176268.1 | 申請日: | 2012-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN102717207B | 公開(公告)日: | 2014-12-17 |
| 發明(設計)人: | 黃繼華;羊浩;李莉;牛志偉;陳樹海;王奇;李德華 | 申請(專利權)人: | 北京科技大學;珠海格力電器股份有限公司 |
| 主分類號: | B23K35/363 | 分類號: | B23K35/363 |
| 代理公司: | 北京金智普華知識產權代理有限公司 11401 | 代理人: | 皋吉甫 |
| 地址: | 100088*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 中溫無 腐蝕 鋁釬劑 及其 制備 方法 | ||
技術領域
????本發明涉及一種中溫無腐蝕鋁釬劑及其制備方法,適用于鋁及鋁合金的火焰釬焊及爐中釬焊,屬于釬焊材料領域。
背景技術
鋁及鋁合金具有優良的物理、化學性能,良好的加工、表面處理和耐腐蝕性能,在航空航天、汽車、機械制造、電子、化工、輕工等領域獲得了廣泛的應用。而釬焊作為一種重要的材料連接技術,具有焊后工件熱應力小,變形小的優點,且適用于多縫多零件的一次性連接成形,一直是鋁及鋁合金零部件加工制造的常用工藝。但鋁及其合金的釬焊性較鋼、銅及銅合金的釬焊性差的多,原因在于鋁及其合金表面易形成一層極為致密的氧化膜。在火焰釬焊和爐中釬焊時,需要配合專用的鋁釬劑,以除去鋁及鋁合金表面的氧化膜。
1963年一篇荷蘭的專利首先提出了利用AlF3-KF共晶鹽作為鋁用釬劑,其主要成分為KAlF4。AlF3-KF釬劑具有去氧化膜效果好、不潮解、無腐蝕、焊后不用清洗等優點。AlF3-KF釬劑的出現,解決了部分傳統氯化物釬劑易潮解,焊后殘渣腐蝕性強的問題,很快被推廣采用。
但是,AlF3-KF釬劑有一個很大的缺點——熔點偏高,AlF3-KF共晶成分釬劑的理論熔點為558℃。由于釬焊中釬劑的熔點必須低于釬料的熔點,這樣釬劑才能先于釬料熔化,去除鋁表面氧化膜并保護釬料免于氧化。所以,AlF3-KF釬劑目前只能配合熔點較高的Al-Si釬料(共晶成分熔點577℃)使用。基于釬焊溫度高于釬料熔點30℃~50℃的原則,這樣釬焊溫度就被抬高到600℃左右。但是,絕大多數鋁合金的熔點或過燒溫度低于600℃,所以在對這些熔點較低的鋁合金進行釬焊時,無法采用AlF3-KF釬劑。目前,AlF3-KF釬劑只適用于熔點較高的純鋁和3003等少數鋁合金的釬焊。而且,AlF3-KF釬劑不太適合進行火焰釬焊,這是因為在火焰釬焊時,可燃氣體燃燒以后的廢氣主要是CO2和水蒸氣,水蒸氣在高溫作用下使AlF3-KF釬劑的主要成分KAlF4水解,而使釬劑失效。
為了解決AlF3-KF釬劑熔點較高的問題,從上世紀六十年代開始,眾多學者嘗試在AlF3-KF二元釬劑中加入第三種組元,以降低AlF3-KF釬劑的熔點。1964年,Thoma發表了KF-AlF3-LiF系熔鹽相圖的報道,這個相圖指出組成為、、處為有一溫度為490℃的三元共晶點。Yamawaki根據Thoma的相圖申報了這個成分釬劑的專利保護。但經后續學者的反復實驗,證明Yamawaki的專利不可信,連同Thoma的相圖也被后來學者所質疑。
Hu?Jia,Zhang?Qiyun在《Thermochimica?Acta》,404(2003)3-7上發表的論文“Investigation?of?pseudo-ternary?system?AlF3–KF–KCl”中論及AlF3–KF–KCl三元系相圖的研究,發現在、的成分點處,?AlF3–KF–KCl三元體系有理論熔點為534℃的共晶點。但該文獻只是對此三元體系進行了理論研究,對該體系釬劑的潮解性,去除氧化膜的能力和釬劑的腐蝕性都沒有進行研究,且釬劑534℃的熔點也略高。
上世紀60年代,有學者提出CsF-AlF3、AlF3-KF-CsF、AlF3-RbF、AlF3-InF、和AlF3-BeF釬劑,該類釬劑存在溫度較低(460℃左右)的成分點,但該類釬劑中都含有大量的貴金屬鹽,成本昂貴,根本無法大規模工業應用。
所以,研制一種熔點較低、不吸潮、無腐蝕性、價格低廉且適合用于火焰釬焊的新型鋁釬劑,對鋁及鋁合金釬焊技術的發展有重大的意義。
發明內容
????本發明為解決目前AlF3-KF釬劑熔點過高,且不太適合于火焰釬焊的問題,提供了一種中溫無腐蝕鋁釬劑及其制備方法。
技術方案:為實現上述目的,本發明是通過以下措施實現的:
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京科技大學;珠海格力電器股份有限公司,未經北京科技大學;珠海格力電器股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210176268.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





