[發明專利]一種陣列基板、其制造方法、顯示面板及顯示裝置

有效

• 申請號: 201210167777.8
• 申請日: 2012-05-25
• 公開（公告）號: CN102709328A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 楊玉清;樸承翊;李炳天;蔣冬華
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: H01L29/786
• 分類號: H01L29/786;H01L27/02;H01L21/77
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 黃燦;趙愛軍

1.一種陣列基板，其特征在于，包括：

形成在形成有有源層的基板上的具有源電極接觸孔和漏電極接觸孔的刻蝕阻擋層；

形成在形成有刻蝕阻擋層的基板上的源電極、漏電極和數據線，源電極通過源電極接觸孔與有源層連接，漏電極通過漏電極接觸孔與有源層連接；

形成在形成有源電極、漏電極和數據線的基板上的具有像素電極接觸孔的鈍化層，所述像素電極接觸孔在基板上的正投影與所述漏電極接觸孔在基板上的正投影重合；

形成在形成有鈍化層的基板上的像素電極，所述像素電極通過像素電極接觸孔與漏電極連接。

2.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，還包括：

形成在基板上的柵電極和柵線；

形成在形成有柵電極和柵線的基板上的柵絕緣層；

形成在柵絕緣層上的有源層。

3.如權利要求1或2所述的陣列基板，其特征在于：

所述有源層為金屬氧化物有源層。

4.如權利要求1或2所述的陣列基板，其特征在于：

所述像素電極接觸孔在基板上的正投影位于柵電極所處的區域內。

5.如權利要求1或2所述的陣列基板，其特征在于：

所述刻蝕阻擋層全部覆蓋所述基板。

6.一種陣列基板的制造方法，其特征在于，包括：

在形成有有源層的基板上形成刻蝕阻擋層，采用第一掩膜版進行光刻后，刻蝕出源電極接觸孔和漏電極接觸孔；

在形成有刻蝕阻擋層的基板上形成源電極、漏電極和數據線，源電極通過源電極接觸孔與有源層連接，漏電極通過漏電極接觸孔與有源層連接；

在形成有源電極、漏電極和數據線的基板上形成鈍化層，采用所述第一掩膜版進行光刻后，刻蝕出像素電極接觸孔；

在形成有鈍化層的基板上形成像素電極，所述像素電極通過像素電極接觸孔與漏電極連接。

7.如權利要求6所述的制造方法，其特征在于，在形成刻蝕阻擋層之前還包括：

在基板上形成柵電極和柵線；

在形成有柵電極和柵線的基板上形成柵絕緣層；

在柵絕緣層上形成有源層。

8.如權利要求6或7所述的制造方法，其特征在于：

所述有源層為金屬氧化物有源層。

9.一種顯示面板，其特征在于，包括權利要求1至5中任一項所述的陣列基板。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求1至5中任一項所述的陣列基板。