[發(fā)明專利]曝光系統(tǒng)、校準系統(tǒng)、光學引擎、曝光方法和制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210159451.0
• 申請日: 2012-05-21
• 公開（公告）號: CN102944978A
• 公開（公告）日: 2013-02-27
• 發(fā)明（設計）人: 梅文輝;杜衛(wèi)沖;曲魯杰
• 申請（專利權）人: 中山新諾科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京龍雙利達知識產(chǎn)權代理有限公司 11329
• 代理人: 毛威;肖鸝

1.一種雙面無掩膜的曝光系統(tǒng)，其特征在于，包括：

第一光學引擎，設置在基板的第一側，用于生成第一曝光圖案并將所述第一曝光圖案投影到所述基板的第一面；

第二光學引擎，設置在所述基板的第二側，用于生成第二曝光圖案并將所述第二曝光圖案投影到所述基板的第二面；

光源系統(tǒng)，用于對所述第一光學引擎和所述第二光學引擎提供曝光光束；

第一分束裝置，設置在所述第一側，用于對經(jīng)過所述第一光學引擎的入射光束以及對經(jīng)過所述第二光學引擎的入射光束進行分光；

第一視覺系統(tǒng)，設置在所述第一側，所述第一視覺系統(tǒng)接收經(jīng)過所述第一光學引擎并由所述第一分束裝置反射的第一光束，以及接收經(jīng)過所述第二光學引擎并由所述第一分束裝置反射的第二光束，以用于校準所述第一光學引擎和所述第二光學引擎的光軸。

2.根據(jù)權利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述第一視覺系統(tǒng)根據(jù)接收的所述第一光束和所述第二光束的偏移量，或由所述第一光束形成的圖像與由所述第二光束形成的圖像的偏移量，確定所述第一光學引擎與所述第二光學引擎的光軸偏移量。

3.根據(jù)權利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述曝光系統(tǒng)還包括：

第一校準光源，用于向所述基板的第一面發(fā)射校準光束，所述第一校準光源發(fā)射的校準光束由所述第一分束裝置反射回所述第一視覺系統(tǒng)，并且具有所述基板上的光敏材料不敏感的光波長。

4.根據(jù)權利要求3所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述第一校準光源設置在所述第一分束裝置和所述第一視覺系統(tǒng)之間；或

所述第一校準光源設置在所述第一光學引擎的曝光光源與所述第一光學引擎之間。

5.根據(jù)權利要求3所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述第一視覺系統(tǒng)還用于根據(jù)接收的所述第一校準光源發(fā)射的、并經(jīng)過所述基板和所述第一分束裝置反射回的校準光束，確定所述基板上的圖形位置，以校準所述第一曝光圖案與所述基板的相對位置。

6.根據(jù)權利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述光源系統(tǒng)包括：

第一曝光光源，對所述第一光學引擎提供曝光光束；

第二曝光光源，對所述第二光學引擎提供曝光光束。

7.根據(jù)權利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述光源系統(tǒng)包括：

第三曝光光源，所述第三曝光光源通過光纖或介質膜鏡片，分別對所述第一光學引擎和所述第二光學引擎提供曝光光束。

8.根據(jù)權利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述第一光學引擎或所述第二光學引擎包括用于生成曝光圖案的空間光調制器，以及用于將曝光圖案投影到所述基板的投影系統(tǒng)。

9.根據(jù)權利要求8所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述第一分束裝置設置在所述第一光學引擎和所述基板之間；或

所述第一分束裝置設置在所述第一光學引擎的所述空間光調制器和所述投影系統(tǒng)之間。

10.根據(jù)權利要求8所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述投影系統(tǒng)包括將來自所述空間光調制器的曝光圖案投影到所述基板上的成像透鏡。

11.根據(jù)權利要求8所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述投影系統(tǒng)包括將來自所述空間光調制器的每個象素的光聚焦為點陣列并成像到所述基板上的點陣列成像系統(tǒng)。

12.根據(jù)權利要求8所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述投影系統(tǒng)包括將來自所述空間光調制器的曝光圖案劃分成子圖像陣列并成像到所述基板上的子圖像陣列成像系統(tǒng)。

13.根據(jù)權利要求8所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述第一光學引擎或所述第二光學引擎在所述空間光調制器關閉時，全反射來自所述第二光學引擎或所述第一光學引擎的光束。

14.根據(jù)權利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述第一分束裝置對所述曝光光束全透射；或

所述第一分束裝置對所述曝光光束的透射率大于反射率。

15.根據(jù)權利要求1至14中任一項所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述曝光系統(tǒng)還包括：

第二校準光源，用于向所述基板的第二面發(fā)射校準光束，所述第二校準光源發(fā)射的校準光束由所述第一分束裝置反射回所述第一視覺系統(tǒng)，并且具有所述基板上的光敏材料不敏感的光波長。