[發明專利]一種導熱硅脂熱處理設備

無效

• 申請號: 201210156322.6
• 申請日: 2012-05-18
• 公開（公告）號: CN102698655A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 龍濤;苗建印;楊輝;米珉;張紅星
• 申請（專利權）人: 北京星達科技發展有限公司
• 主分類號: B01J6/00
• 分類號: B01J6/00
• 代理公司: 中國航天科技專利中心 11009
• 代理人: 安麗

技術領域

本發明屬于導熱硅脂加工技術領域，特別涉及一種提高導熱硅脂性能的熱處理設備。

背景技術

導熱硅脂是一種高導熱絕緣有機硅材料，廣泛應用于器件之間的熱傳導。導熱硅脂的爬油及可凝揮發物一直以來都是較為普遍的問題。由于可凝揮發物的存在，會破壞使用環境的潔凈度，在使用環境要求嚴格的場合(如航天器熱管的裝配等)會造成其他元器件的失效，因此，需要對導熱硅脂進行專門的處理，以盡量降低可凝揮發物的含量，使其在使用過程中盡量少的揮發。

目前，去除導熱硅脂內可凝揮發物的處理工藝是：先將導熱硅脂盛放于托盤中，再將托盤放入烘箱中，保持一定的溫度，連續烘烤48小時以上，在烘烤過程中，每隔大約2小時打開烘箱門2分鐘，使可凝揮發物排出烘箱。在這樣的處理工藝中，大部分可凝揮發物可以被排出導熱硅脂，但由于排出的可凝揮發物在烘箱內還處于氣體狀態并與導熱硅脂直接接觸，其中的一部分會重新進入導熱硅脂，影響導熱硅脂的質量。所以，處理后的導熱硅脂內還有少部分的可凝揮發物，無法用于對環境要求極高的場合下使用，這樣的處理工藝存在一定的缺陷需要改進。

發明內容

本發明的目的在于，克服現有技術的不足，提供一種高效率的導熱硅脂熱處理設備。

本發明的技術解決方案是，一種導熱硅脂熱處理設備，包括位于上部的真空罐和下部的真空機組和制冷機；所述的真空罐內部固定安裝支架、冷凝管路和收集盒；所述的支架安裝在真空罐中部，支架上放置加熱托盤，加熱托盤用于盛放導熱硅脂并對其進行加熱；真空機組通過管路與真空罐連接，用于對罐體進行抽真空；冷凝管路固定在真空罐內側，收集盒位于冷凝管路的正下方；制冷機通過管路與冷凝管路連接，對冷凝管路進行制冷。

所述加熱托盤根據真空罐的空間設置為多層。

所述真空罐的真空度小于0.1Pa。

所述加熱托盤為底部銀釬焊加熱絲的不銹鋼托盤，托盤中心位置的加熱絲稀疏、四周位置加熱絲密集。

所述加熱托盤的加熱溫度為100-200℃。

所述冷凝管路的溫度低于15℃。

本發明與現有技術相比的有益效果是：

1.本發明通過使用真空罐、真空機組和制冷機等部件的組合，用真空機組對真空罐抽真空，并使用冷凝管路和收集盒對導熱硅脂加熱產生的可凝揮發物進行收集，使揮發出來的可凝揮發物一部分通過真空機組排出，另一部分冷凝在冷凝管路上，并最終收集到位于冷凝管路下方的收集盒中，大大減少了導熱硅脂中可凝揮發物的含量，提高了導熱硅脂的性能。

2.考慮加熱托盤面積較大時，托盤四周與中心溫差較大的問題，本發明在托盤中心位置和四周位置采用不同密集度的加熱絲分布，使整個托盤能對導熱硅脂進行均勻加熱。同時，采用銀釬焊方式將加熱絲固定在托盤底部，提高了托盤的導熱效率。

3.本發明通過合理選擇真空罐的真空度、加熱溫度、冷凝溫度等參數，為可凝揮發物的排出和收集提供了良好的熱處理條件，有效提高了導熱硅脂的性能。

附圖說明

圖1為本發明的結構示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖和具體實施方式對本發明做進一步說明。

如圖1，本發明的一種導熱硅脂熱處理設備，包括位于上部的真空罐1和下部的真空機組6和制冷機7。

在真空罐1的內部固定支架2、冷凝管路3和收集盒4。支架2安裝在真空罐1的中部，支架2上放置加熱托盤5，加熱托盤5用于盛放導熱硅脂并對其進行加熱。根據真空罐1的空間和支架2的高度，可以放置多層加熱托盤5。本實施例中，加熱托盤5的層數為5層。

真空機組6通過管路與真空罐1連接，用于對罐體進行抽真空。冷凝管路3固定在真空罐1的內側，收集盒4位于冷凝管路3的正下方。制冷機7通過管路與冷凝管路3連接，對冷凝管路3進行制冷。

真空罐1為導熱硅脂的熱處理提供真空環境，真空度太低則導熱硅脂內的可凝揮發物不能充分被抽出，因此，真空罐1內的真空度應小于0.1Pa。本實施例中，真空罐1的真空度為0.05Pa。

加熱托盤5用于盛放導熱硅脂并對其進行加熱，加熱溫度太低，不能使導熱硅脂中可凝揮發物充分揮發，加熱溫度過高則會破壞導熱硅脂的性能，因此本發明的加熱溫度選擇在100-200℃之間。本實施例中，加熱托盤5的加熱溫度為150℃。