[發(fā)明專利]一種提高圖形線寬量測(cè)精度對(duì)準(zhǔn)的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210136005.8
• 申請(qǐng)日: 2012-05-04
• 公開（公告）號(hào): CN102683238A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王劍;戴韞青
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/66
• 分類號(hào): H01L21/66;G03F9/00
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 王敏杰

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種微電子的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種能夠提高圖形線寬量測(cè)精度對(duì)準(zhǔn)的方法。

背景技術(shù)

半導(dǎo)體芯片制造中，使用光刻機(jī)（scanner）曝光定義電路圖形，線寬尺寸（CD）越來越小，掃描式電子顯微鏡（SEM）是量測(cè)特征尺寸線寬的主要設(shè)備。其成像原理是電子束照射在被量測(cè)物體上，在不同形貌區(qū)域產(chǎn)生不同數(shù)量的二次電子。收集二次電子信號(hào)并轉(zhuǎn)化成特征尺寸線寬的圖像。當(dāng)電子束照射在光刻膠上時(shí)，會(huì)對(duì)光刻膠造成電子照射損傷，導(dǎo)致光刻膠圖形變形，影響特征尺寸線寬的量測(cè)結(jié)果。為了減少對(duì)光刻膠的電子照射損傷，生產(chǎn)中需要建立量測(cè)程序完成自動(dòng)量測(cè)，其中量測(cè)程序的第一個(gè)步驟就要進(jìn)行精確對(duì)準(zhǔn)。

隨著半導(dǎo)體芯片的集成度不斷提高，晶體管的特征尺寸不斷縮小到納米級(jí)，生產(chǎn)工藝也越來越復(fù)雜。在生產(chǎn)中各種元器件的三維結(jié)構(gòu)被分解為幾十層二維的光刻圖形。為了達(dá)到良好的器件性能，各個(gè)光刻圖形要有精準(zhǔn)的特征尺寸線寬，目前生產(chǎn)中使用日立（Hitachi）掃描電子顯微鏡（SEM）進(jìn)行量測(cè)，在建立量測(cè)的程序中，第一步需要進(jìn)行晶圓的對(duì)準(zhǔn)，它的目的是先找到曝光范圍（field）的相對(duì)容易識(shí)別的圖形目標(biāo)作為基準(zhǔn)位置，目前找基準(zhǔn)位置主要有兩種，一種是在field里面找到一個(gè)圖形，這種方法缺點(diǎn)是如果量測(cè)圖形在基準(zhǔn)的左邊，那么在量測(cè)的時(shí)候，量測(cè)圖形被認(rèn)為是左邊的field，如圖1所示的一種對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)在field里的方法，1為量測(cè)圖形，2為基準(zhǔn)。

第二種是在field交界處十字形圖形，這種方法缺點(diǎn)是圖形由大塊的光阻區(qū)和非光阻區(qū)組成，在對(duì)準(zhǔn)時(shí)容易失焦，導(dǎo)致對(duì)準(zhǔn)發(fā)生錯(cuò)誤，如圖2所示的一種對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)在field交界處的十字圖形的方法，3為光阻區(qū)，4為非光阻區(qū)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種提高圖形線寬量測(cè)精度對(duì)準(zhǔn)的方法，以解決現(xiàn)有找基準(zhǔn)位置方法中如果量測(cè)圖形在基準(zhǔn)的左邊，那么在量測(cè)時(shí)量測(cè)圖形被認(rèn)為是左邊的field，以及對(duì)準(zhǔn)時(shí)容易失焦，導(dǎo)致對(duì)準(zhǔn)發(fā)生錯(cuò)誤的問題。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取的技術(shù)方案為：

一種提高圖形線寬量測(cè)精度對(duì)準(zhǔn)的方法，其中：

S1：在掩模板上設(shè)置具有數(shù)字或字母和接觸孔的圖形結(jié)構(gòu)；

S2：對(duì)所述掩模板進(jìn)行曝光晶圓，在交界處形成對(duì)準(zhǔn)圖形；

S3：建立自動(dòng)量測(cè)程序，對(duì)所述對(duì)準(zhǔn)圖形進(jìn)行精度對(duì)準(zhǔn)；

S4：自動(dòng)量測(cè)晶圓所需的結(jié)構(gòu)圖形。

上述的一種提高圖形線寬量測(cè)精度對(duì)準(zhǔn)的方法，其中，所述對(duì)準(zhǔn)圖形為在橫豎接觸孔中具有數(shù)字的圖形。

上述的一種提高圖形線寬量測(cè)精度對(duì)準(zhǔn)的方法，其中，所述對(duì)準(zhǔn)圖形為在橫豎接觸孔中具有字母的圖形。

上述的一種提高圖形線寬量測(cè)精度對(duì)準(zhǔn)的方法，其中，所述對(duì)準(zhǔn)圖通過交界形成四個(gè)部分。

上述的一種提高圖形線寬量測(cè)精度對(duì)準(zhǔn)的方法，其中，用于0.25微米技術(shù)節(jié)點(diǎn)以下。

本發(fā)明由于采用了上述技術(shù)，使之具有的積極效果是：

本發(fā)明提出在field交界處曝光帶有數(shù)字或字母圖形結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)方案，該圖形結(jié)構(gòu)用于在線寬量測(cè)第一步的精度對(duì)準(zhǔn)，同時(shí)可方便的識(shí)別field?的上下左右順序，并適用于0.25微米技術(shù)節(jié)點(diǎn)以下線條光刻生產(chǎn)工藝。本發(fā)明分割開的光阻區(qū)和非光阻區(qū)的小線條圖形，更容易對(duì)焦，而且數(shù)字或字母代碼更容易識(shí)別上下左右field的位置。

附圖說明

圖1是一種對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)在field里的方法。

圖2是一種對(duì)準(zhǔn)基準(zhǔn)在field交界處的十字圖形的方法。

圖3是本發(fā)明的一種提高圖形線寬量測(cè)精度對(duì)準(zhǔn)的方法中曝光排列的示意圖。

圖4是本發(fā)明的一種提高圖形線寬量測(cè)精度對(duì)準(zhǔn)的方法中接觸孔對(duì)準(zhǔn)圖形結(jié)構(gòu)的一種示意圖。

圖5是本發(fā)明的一種提高圖形線寬量測(cè)精度對(duì)準(zhǔn)的方法中接觸孔對(duì)準(zhǔn)圖形結(jié)構(gòu)的另一種示意圖。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖給出本發(fā)明一種提高圖形線寬量測(cè)精度對(duì)準(zhǔn)的方法的具體實(shí)施方式。