[發(fā)明專利]平坦化修正臂、應(yīng)用其的平坦化系統(tǒng)及平坦化方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210134506.2
• 申請(qǐng)日: 2012-05-03
• 公開（公告）號(hào): CN103381575A
• 公開（公告）日: 2013-11-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 葉韋華;賴明燦
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 旺宏電子股份有限公司
• 主分類號(hào): B24B53/017
• 分類號(hào): B24B53/017
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 宋焰琴

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明是有關(guān)于一種平坦化修正臂、應(yīng)用其的平坦化系統(tǒng)及平坦化方法，且特別是有關(guān)于一種可取得表面輪廓的平坦化修正臂、應(yīng)用其的平坦化系統(tǒng)及平坦化方法。

背景技術(shù)

傳統(tǒng)的平坦化系統(tǒng)需要在一次性地研磨數(shù)千片晶圓后，再測(cè)量研磨墊的表面輪廓，然后依據(jù)研磨墊的表面輪廓判斷是否需要修正研磨墊。

然而，當(dāng)測(cè)量出研磨墊的表面輪廓需要修正時(shí)，往往表示前幾片晶圓的平坦度可能是不佳，而導(dǎo)致此些晶圓必須要報(bào)廢或重工的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明是有關(guān)于一種平坦化修正臂、應(yīng)用其的平坦化系統(tǒng)及平坦化方法，一實(shí)施例中，在二片待加工件的平坦化過程之間，可取得研磨墊的表面輪廓，作為修正研磨墊的參考，使下片待加工件的平坦度可以更優(yōu)良。

根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，提出一種平坦度修正臂，該平坦度修正臂用以修正一平坦化系統(tǒng)的一研磨墊的平坦度；平坦度修正臂包括一搖臂、一加工頭、一光發(fā)射器、一光接收器、一表面輪廓取得單元及一控制單元；加工頭連接于搖臂；光發(fā)射器發(fā)射一光線至研磨墊；光接收器接收自研磨墊反射的光線；表面輪廓取得單元依據(jù)自研磨墊反射及折射的光線，取得研磨墊的一表面輪廓；控制單元依據(jù)表面輪廓，驅(qū)動(dòng)搖臂帶動(dòng)加工頭至研磨墊上而修正研磨墊的平坦度。

根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，提出一種平坦化系統(tǒng)，該平坦化系統(tǒng)包括一研磨墊、一研磨頭及一平坦度修正臂；研磨頭抵壓一待加工件于研磨墊上；平坦度修正臂包括一搖臂、一加工頭、一光發(fā)射器、一光接收器、一表面輪廓取得單元及一控制單元；加工頭連接于搖臂；光發(fā)射器發(fā)射一光線至研磨墊；光接收器接收自研磨墊反射的光線；表面輪廓取得單元依據(jù)自研磨墊反射及折射的光線，取得研磨墊的一表面輪廓；控制單元依據(jù)表面輪廓，驅(qū)動(dòng)搖臂帶動(dòng)加工頭至研磨墊上而修正研磨墊的平坦度。

根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，提出一種平坦化方法，該平坦化方法包括以下步驟：設(shè)置一測(cè)試加工件至一研磨墊上，以平坦化該測(cè)試加工件；在測(cè)試加工件被平坦化的過程中，發(fā)射一光線至研磨墊；在測(cè)試加工件被平坦化的過程中，接收自研磨墊反射及折射的光線；依據(jù)自研磨墊反射及折射的光線，取得研磨墊的一初始表面輪廓；依據(jù)初始表面輪廓判斷研磨墊的平坦度是否需要修正；若研磨墊的平坦度需要修正，平坦度修正臂修正研磨墊的平坦度；以及，若研磨墊的平坦度不需要修正，設(shè)置一第一待加工件至研磨墊上。

為了對(duì)本發(fā)明的上述及其他方面有更佳的了解，下文特舉實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說(shuō)明如下：

附圖說(shuō)明

圖1繪示依照本發(fā)明一實(shí)施例的平坦化系統(tǒng)的剖視圖。

圖2繪示圖1的光發(fā)射器發(fā)射光線至研磨墊的示意圖。

圖3繪示圖1的俯視圖。

圖4繪示圖1的修正臂的局部放大圖。

圖5繪示依照本發(fā)明另一實(shí)施例的搖臂的俯視圖。

圖6繪示依照本發(fā)明另一實(shí)施例的搖臂的側(cè)視圖。

圖7繪示依照本發(fā)明一實(shí)施例的平坦化流程圖。

【主要元件符號(hào)說(shuō)明】

100：平坦化系統(tǒng)

110：承載臺(tái)

120：研磨墊

130：研磨頭

140：修正臂

141：光發(fā)射器

142：光接收器

143：表面輪廓取得單元

144：控制單元

145：加工頭

1451：磨粒層

146：搖臂

1461：外殼

1462：傳動(dòng)機(jī)構(gòu)

1463：驅(qū)動(dòng)輪

1464：傳動(dòng)帶

1465：伸出部

1465b：底面

150：待加工件

150s：待加工面

150′：測(cè)試加工件

151：第一待加工件

d：厚度

L1：光線

L2：反射光

L3：折射光

S1：徑向

S2：周向

具體實(shí)施方式

請(qǐng)參照?qǐng)D1，其繪示依照本發(fā)明一實(shí)施例的平坦化系統(tǒng)的剖視圖。平坦化系統(tǒng)100例如是化學(xué)機(jī)械平坦化(Chemical?Mechanical?Planarization，CMP)或其它平坦化系統(tǒng)。平坦化系統(tǒng)100包括承載臺(tái)110、研磨墊120、研磨頭130及平坦度修正臂140。