[發(fā)明專利]一種硅氧烷氣敏材料的低毒合成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210122624.1
• 申請日: 2012-04-25
• 公開（公告）號: CN102634030A
• 公開（公告）日: 2012-08-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 杜曉松;王洋;蔣亞東
• 申請（專利權(quán)）人: 電子科技大學(xué)
• 主分類號: C08G77/385
• 分類號: C08G77/385;C07F7/08
• 代理公司: 成都華典專利事務(wù)所(普通合伙) 51223
• 代理人: 徐豐;楊保剛

1.?一種硅氧烷氣敏材料的低毒合成方法，是利用硅氫加成反應(yīng)在含氫硅氧烷上生長含有六氟異丙醇分子的側(cè)鏈，其特征在于，系利用2-烯烷基六氟異丙醇和含氫硅氧烷為原料合成硅氧烷氣敏材料，2-烯烷基六氟異丙醇的分子式為：

CH₂＝CH－(CH₂)_n－C(CF₃)₂－OH，其中，n介于0～3之間。

2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅氧烷氣敏材料的低毒合成方法，其特征在于，含氫硅氧烷為小分子或線性聚合物或超支聚合物中的一種。

3.?根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種硅氧烷氣敏材料的低毒合成方法，其特征在于，含氫硅氧烷的分子量為500～10000。

4.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅氧烷氣敏材料的低毒合成方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）將含氫硅氧烷、2-烯烷基六氟異丙醇、催化劑及溶劑在氮氣保護(hù)下常溫攪拌反應(yīng)；

（2）反應(yīng)24～48h后，加入活性炭繼續(xù)攪拌2～4h，去除活性炭和溶劑，得到含有六氟異丙醇官能團(tuán)的硅氧烷氣敏材料。

5.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種硅氧烷氣敏材料的低毒合成方法，其特征在于，步驟（1）中2-烯烷基六氟異丙醇和含氫硅氧烷的質(zhì)量比為3:1～4:1。

6.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種硅氧烷氣敏材料的低毒合成方法，其特征在于，步驟（1）中的催化劑為二乙烯基四甲基二硅氧烷鉑配合物。

7.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種硅氧烷氣敏材料的低毒合成方法，其特征在于，步驟（1）所述的溶劑為甲苯。

8.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種硅氧烷氣敏材料的低毒合成方法，其特征在于，步驟（2）中，采用過濾除去活性炭，減壓蒸餾蒸出溶劑，真空干燥后得到含有六氟異丙醇官能團(tuán)的硅氧烷氣敏材料。