[發明專利]一種純硅基介孔二氧化硅納米顆粒的制備方法

無效

• 申請號: 201210119609.1
• 申請日: 2012-04-23
• 公開（公告）號: CN102616795A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發明（設計）人: 張坤;周丹;吳光東;蔣金剛
• 申請（專利權）人: 華東師范大學
• 主分類號: C01B33/18
• 分類號: C01B33/18;B82Y40/00
• 代理公司: 上海藍迪專利事務所 31215
• 代理人: 徐筱梅;張翔

1.一種純硅基介孔二氧化硅納米顆粒的制備方法，其特征在于該方法直接使用有機小分子胺為堿源、陽離子表面活性劑作為模板劑、四烷基硅酸酯為硅源、去離子水為水源作為原料；原料的摩爾組成為硅源?:?陽離子表面活性劑?:?有機小分子胺?:?水?=?1?:?0.03～0.1?:?0.001～0.24?:?40～200；具體制備包括以下步驟：

先將去離子水、堿源、模板劑依次混合于反應容器中，80℃恒溫攪拌至溶液澄清，然后將硅源迅速加入到混合溶液當中，80℃恒溫繼續攪拌2小時，冷卻到室溫后直接將產物過濾、洗滌并干燥，使用焙燒或酸處理的方法將孔道內的表面活性劑去除，得到純硅基介孔二氧化硅納米顆粒，顆粒的尺寸為20～100nm；其中：

所述有機小分子胺為三羥甲基胺基甲烷、二乙醇胺、三乙醇胺三甲胺、三乙胺、三丙胺、乙醇胺、甲胺、乙胺、丙胺或丁胺；

所述陽離子表面活性劑為十六烷基三甲基對甲基苯磺酸銨鹽即CTATos、十六烷基三甲基溴化銨即CTABr或十六烷基三甲基氯化銨即CTACl；

所述四烷基硅酸酯為四甲氧基硅酸酯或四乙氧基硅酸酯；

所述焙燒是在550℃下焙燒5小時；酸處理是用1M的HCl乙醇溶液在室溫下攪拌1小時。