[發明專利]一種光譜測量裝置

有效

• 申請號: 201210113260.0
• 申請日: 2012-04-18
• 公開（公告）號: CN102680098B
• 公開（公告）日: 2016-10-12
• 發明（設計）人: 潘建根
• 申請（專利權）人: 杭州遠方光電信息股份有限公司
• 主分類號: G01J3/28
• 分類號: G01J3/28;G01J3/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光譜測量裝置，包括入射狹縫(1)、色散元件(2)和一個或多個成像元件(3)，光線從入射狹縫(1)進入光譜測量裝置，經色散元件(2)分光后，成像元件(3)將色散光會聚成像，其特征在于，在成像元件(3)的表面鍍有光譜選擇性薄膜(4)，所述的光譜選擇性薄膜(4)的選擇波段與光譜測量裝置的測量波段相對應。

2.如權利要求1所述的一種光譜測量裝置，其特征在于，所述的光譜選擇性薄膜(4)由兩種或兩種以上具有不同選擇波段的光學薄膜構成，各光學薄膜的選擇波段首尾交疊且覆蓋整個測量波段；或者所述的光譜選擇性薄膜(4)為一種局部選擇波段范圍漸變的光學薄膜。

3.如權利要求1所述的一種光譜測量裝置，其特征在于，包括陣列探測器(5)，成像元件(3)將色散光成像到陣列探測器(5)的光敏面上，在所述的陣列探測器(5)光敏面的不同像素區域上鍍有與探測波長相對應的光譜選擇性薄膜(4)。

4.如權利要求1所述的一種光譜測量裝置，其特征在于，包括用于將成像元件(3)切入光路的切換機構(8)，在所述的切換機構(8)上設置兩個或兩個以上的成像元件(3)，所述的兩個或兩個以上的成像元件(3)分別鍍有選擇波段不同的光譜選擇性薄膜(4)。

5.如權利要求1所述的一種光譜測量裝置，其特征在于，包括兩個或兩個以上的色散元件(2)和兩個或兩個以上的成像元件(3)，色散元件(2)和成像元件(2)的數目相等且間隔設置，各個成像元件(3)上均鍍有選擇波段對應相等的光譜選擇性薄膜(4)。

6.如權利要求1或3或4或5所述的一種光譜測量裝置，其特征在于，所述的成像元件(3)是凹面反射鏡，在凹面反射鏡的表面鍍有光譜選擇性反射膜或濾光膜。

7.如權利要求1或5所述的一種光譜測量裝置，其特征在于，在所述的色散元件(2)上鍍有與光譜測量裝置的測量波段相對應的光譜選擇性薄膜(4)。

8.如權利要求1或5所述的一種光譜測量裝置，其特征在于，包括設置于色散元件(2)的入射或出射光路上的一個或者多個準直鏡6)或/和反射鏡(7)。

9.如權利要求8所述的一種光譜測量裝置，其特征在于，在所述的一個或者多個準直鏡6)或/和反射鏡(7)上鍍有與光譜測量裝置的測量波段相對應的光譜選擇性薄膜(4)。

10.如權利要求1或4或5所述的一種光譜測量裝置，其特征在于，包括用以出射單色光的出射狹縫(9)，所述的出射狹縫(9)設置在成像元件(3)的成像面上。