[發明專利]太陽能多晶硅電池片表面缺陷與沾污檢測設備

無效

• 申請號: 201210110124.6
• 申請日: 2012-04-16
• 公開（公告）號: CN103376255A
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發明（設計）人: 楊廣;趙潤川;權炳浩;廖國偉;丁正雍;陳利平;李波
• 申請（專利權）人: 蘇州中導光電設備有限公司
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88
• 代理公司: 昆山四方專利事務所 32212
• 代理人: 盛建德

技術領域

本發明涉及一種太陽能硅片檢測系統，特別涉及一種多晶硅片表面缺陷檢測設備。?

背景技術

隨著太陽能發電進入民用領域，太陽能光伏產業以突飛猛進的速度發展。由此對太陽能硅片的質量檢測越來越被重視。太陽能硅片的表面缺陷是其中一個重要方面。但是多晶硅片由于其自身緣故，晶粒之間明暗變化非常明顯，這嚴重降低了表面缺陷的信噪比，從而降低了表面缺陷的檢測精度。在現有的產品中，基本都是靠后期圖像處理的方法將晶粒噪聲消除。這不僅延長了圖像處理的時間，而且會丟失一些細微的信息。對在線檢測及高精度都造成了不良影響。?

發明內容

為了彌補以上不足，本發明提供了一種多晶硅片表面缺陷檢測設備，該多晶硅片表面缺陷檢測設備照明系統能夠在檢測區形成亮度均勻性和角度均勻性非常高的光斑，能消除晶粒噪聲干擾，檢測精度高。?

本發明為了解決其技術問題所采用的技術方案是：一種太陽能多晶硅電池片表面缺陷與沾污檢測設備，包括機架、照明?室、傳送機構、成像裝置和處理器，以實際使用方向為基準，所述照明室固定于機架上，照明室內設有光源，照明室的內壁上設有一層漫反射材料制成的涂層，傳送機構能夠傳送待檢測產品到照明室內光源形成的均勻光照區域，照明室上方的頂壁設有與待檢測產品位置正對的通光孔，所述成像裝置位于通光孔正上方的機架上，成像裝置能夠將圖片信息傳信給處理器，傳送機構將待檢測產品輸送到光源形成的均勻光照區域內并與成像裝置正對的位置，光源發出的光線經過照明室內壁漫反射后投射在待檢測產品上，在待檢測產品上形成照度均勻性和角度均勻性非常高的光斑，成像裝置通過照明室頂壁的通光孔對待檢測產品成像，并將圖像信號傳輸給處理器進行分析比對，得出檢測結果，由于待檢測產品上的光斑照度均勻性和照明角度均勻性非常高，這就消除了待檢測產品上晶粒噪聲干擾，提高了檢測精度，在本專利中，照度均勻指的是在光斑的不同區域光強一致或接近，照明角度均勻指的是在同一區域，入射角不同的光的強度一致或接近。?

作為本發明的進一步改進，所述光源為單色LED、多色LED、鹵素燈和熒光燈中的一種，所述光源固定于照明室內側邊緣位置，這樣容易在照明室內壁發生漫反射，當然不排除在側壁上其它位置。?

作為本發明的進一步改進，所述光源對應位于待檢測產品的四個側面形成方形結構和環形結構中的一種，條狀光源的間隔比待待檢測產品尺寸大，用于容置待檢測產品。?

作為本發明的進一步改進，所述照明室頂壁的通光孔為圓?形孔、方形孔和多邊形孔中的一種。?

作為本發明的進一步改進，所述成像裝置為相機。?

作為本發明的進一步改進，所述照明室側壁上設有能夠開啟和閉合的門，便于實時查看多晶硅片及設備維修。?

作為本發明的進一步改進，所述機架下側設有高度能夠調節的支腳，便于調節光源高度，確保光源高度與待檢測產品匹配以及光源與待檢測產品的平行度，確保光斑的照度均勻性和照明角度均勻性。?

作為本發明的進一步改進，所述照明室內壁的漫反射涂層為高漫反射涂料(比如BaSO4)和貼膜中的一種。?

作為本發明的進一步改進，所述照明室內壁2為方筒形和圓筒形的腔體中的一種。?

本文所檢測的太陽能多晶硅電池片是指從硅片到成品電池片生產過程中的任何半成品或成品。?

本發明的有益技術效果是：本發明通過散射腔將光源的光線漫反射，使得投射在多晶硅片上的光斑亮度均勻性和角度均勻性非常高，進而消除了晶粒噪聲干擾，提高了多晶硅片表面檢測精度。?

附圖說明

圖1為本發明的結構原理示意圖；?

圖2為本發明的立體圖。?

具體實施方式