[發(fā)明專利]液晶顯示裝置的制造方法和液晶顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210108792.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-04-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102736298A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 土屋健司;羽澤榮作;山本洋明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社日立顯示器 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1333 | 分類號(hào): | G02F1/1333;G02F1/136;G02F1/1343;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 陳偉;孟祥海 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶 顯示裝置 制造 方法 | ||
1.一種液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,具有以下工序:
第二工序,在基板的第一區(qū)域內(nèi)形成第一半導(dǎo)體層,在第二區(qū)域內(nèi)形成第二半導(dǎo)體層;
第三工序,在上述第一區(qū)域內(nèi)與上述第一半導(dǎo)體層分離地形成第一電極,在上述第二區(qū)域內(nèi)與上述第二半導(dǎo)體層分離地形成第二電極;
第四工序,形成對(duì)上述第一區(qū)域的上述第一半導(dǎo)體層與上述第一電極進(jìn)行電連接的第三電極,并且使上述第一半導(dǎo)體層和上述第二半導(dǎo)體層露出;以及
第五工序,將上述第二半導(dǎo)體層用作蝕刻量的指標(biāo)而對(duì)所露出的上述第一半導(dǎo)體層進(jìn)行蝕刻。
2.一種液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,
具有以下工序:
柵電極形成工序,在玻璃基板的像素區(qū)域內(nèi)形成第一柵電極,在膜厚TEG部中形成第二柵電極;
柵極絕緣膜形成工序,在形成了上述第一柵電極和上述第二柵電極的上述玻璃基板上形成柵極絕緣膜;
半導(dǎo)體層形成工序,在上述像素區(qū)域的形成了上述第一柵電極的上述柵極絕緣膜上形成第一半導(dǎo)體層,在上述膜厚TEG部的形成了上述第二柵電極的上述柵極絕緣膜上形成第二半導(dǎo)體層;
像素電極形成工序,在像素區(qū)域的上述柵極絕緣膜上與上述第一半導(dǎo)體層分離地形成第一像素電極,在上述膜厚TEG部的周邊的上述柵極絕緣膜上與上述第二半導(dǎo)體層分離地形成第二像素區(qū)域;
漏電極形成工序,在上述玻璃基板上將導(dǎo)電膜在整個(gè)平面形成之后,將光致抗蝕劑圖案作為掩模,形成對(duì)上述像素區(qū)域的上述第一半導(dǎo)體層與上述第一像素電極進(jìn)行電連接的漏電極,并且使上述第一半導(dǎo)體層和上述第二半導(dǎo)體層露出;
溝道蝕刻工序,繼續(xù)將上述光致抗蝕劑圖案作為掩模,將上述第二半導(dǎo)體層用作蝕刻量的指標(biāo)而對(duì)所露出的上述第一半導(dǎo)體層進(jìn)行蝕刻;
絕緣膜形成工序,之后在上述玻璃基板上形成絕緣膜;以及
公共電極形成工序,在上述第一像素電極上的上述絕緣膜上形成公共電極。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,
上述第一半導(dǎo)體層和上述第二半導(dǎo)體層為非晶硅層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,
上述第一電極和上述第二電極為ITO電極。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,
形成于上述第二區(qū)域內(nèi)的上述第二電極的面積、位置被決定為在上述第五工序中上述第一半導(dǎo)體層與上述第二半導(dǎo)體層的蝕刻量為相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,
上述導(dǎo)電膜為Mo膜,或者為以Mo膜、含有Al的Mo膜夾持Al膜而成的多層膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,
上述第一半導(dǎo)體層和上述第二半導(dǎo)體層為非晶硅層,上述第一像素電極和上述第二像素電極為ITO電極。
8.一種液晶顯示裝置,在基板上的第一區(qū)域內(nèi)設(shè)置有像素區(qū)域,其特征在于,
在上述像素區(qū)域內(nèi)設(shè)置有:柵電極、設(shè)置于上述柵電極上的柵極絕緣膜、設(shè)置于柵電極上部的上述柵極絕緣膜上的半導(dǎo)體層和像素電極、漏電極、以及配置于上述像素電極的上部的公共電極,其中,上述漏電極配置在上述半導(dǎo)體層和上述像素電極上,并對(duì)上述半導(dǎo)體層和上述像素電極進(jìn)行電連接,
在上述基板上的第二區(qū)域內(nèi)設(shè)置有與上述像素電極同時(shí)形成的由同一材料形成的電極。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶顯示裝置,其特征在于,
上述柵極絕緣膜為氮化硅膜,上述半導(dǎo)體層為非晶硅層,上述像素電極為ITO電極。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社日立顯示器,未經(jīng)株式會(huì)社日立顯示器許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210108792.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





