[發明專利]表面處理圖紋退鍍工藝(PPVD)

無效

• 申請號: 201210099739.3
• 申請日: 2012-04-06
• 公開（公告）號: CN102616083A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發明（設計）人: 林其松
• 申請（專利權）人: 深圳市聯懋塑膠有限公司
• 主分類號: B44D5/00
• 分類號: B44D5/00;B44F9/10;G03F7/09;C25D5/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.表面處理圖紋退鍍工藝(PPVD)，其特征在于，包括以下步驟：

1)在素材表面涂布UV底漆或超聲波清洗素材，并對素材表面進行電鍍；

2)噴涂或絲印感光油墨；

3)將菲林放置噴涂或感光油墨的素材表面，定位，并進行真空曝光；

4)將素材置于堿性溶劑浸泡顯影；

5)用清水清洗浸泡顯影后的素材并進行酸性溶劑浸泡蝕刻；

6)用清水清洗蝕刻后的素材并進行堿性溶劑退膜；

7)純水清洗，烤箱烘烤，烘烤時間10-30分鐘，至水考干為止；

8)再依次涂布UV中漆PU中漆，UV面漆或橡膠漆，得出成品。

2.根據權利要求1所述的表面處理圖紋退鍍工藝(PPVD)，其特征在于，

所述素材為塑膠外殼或者是玻璃或者是陶瓷；所述涂布底漆時膜厚18-20um，溫度45至60度，烘烤時間3-5分鐘，UV能量700-800焦耳。

3.根據權利要求1所述的表面處理圖紋退鍍工藝(PPVD)，其特征在于，

所述電鍍可以是蒸發鍍或者是濺射鍍或者是光學鍍；所述蒸發鍍是將鍍材，銦，錫，鋁等置于真空室內的蒸發源中，在高真空條件下，通過蒸發源加熱使其蒸發，凝結于塑膠表面上，形成金屬膜；所述濺射鍍是靶材在高真空條件下，通過輝光放電沖撞靶材表面，使靶材表面粒子濺射，沉積于素材上形成金屬膜；所述光學鍍是將真空艙內放置離子槍轟擊素材表面，進行減反射膜的鍍膜。

4.根據權利要求1所述的表面處理圖紋退鍍工藝(PPVD)，其特征在于，

所述噴涂或絲印感光油墨時膜厚5-10um，溫度60-70度，烘烤時間10-20分鐘。

5.根據權利要求1所述的表面處理圖紋退鍍工藝(PPVD)，其特征在于，

所述堿性溶劑顯影時浸泡時間30-40秒，鼓泡5-10秒。

6.根據權利要求1所述的表面處理圖紋退鍍工藝(PPVD)，其特征在于，

所述酸性溶劑蝕刻時浸泡30秒-40秒。

7.根據權利要求1所述的表面處理圖紋退鍍工藝(PPVD)，其特征在于，

所述涂布UV中漆時中漆膜厚10-20um，溫度55至65度，烘烤時間3-5分鐘，UV能量700-900焦耳；所述涂布PU中漆時中漆膜厚10-20um，溫度60-80度，烘烤時間20-30分鐘。

8.根據權利要求1所述的表面處理圖紋退鍍工藝(PPVD)，其特征在于，

所述涂布UV面漆時面漆膜厚10-15um，溫度45至65度，烘烤時間3-5分鐘，UV能量800-1200焦耳；所述涂布橡膠漆時漆膜厚40-50um，溫度70-80度，烘烤時間30分鐘。