[發(fā)明專利]一種原位反應(yīng)制備镥硅氧氮陶瓷材料的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210097702.7 | 申請日: | 2012-04-05 |
| 公開(公告)號: | CN102659407A | 公開(公告)日: | 2012-09-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王京陽;孫魯超 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院金屬研究所 |
| 主分類號: | C04B35/50 | 分類號: | C04B35/50;C04B35/626;C04B35/645 |
| 代理公司: | 沈陽優(yōu)普達知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 張志偉 |
| 地址: | 110016 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 原位 反應(yīng) 制備 镥硅氧氮 陶瓷材料 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及高溫功能/結(jié)構(gòu)陶瓷領(lǐng)域,具體地說是一種原位反應(yīng)制備镥硅氧氮(Lu4Si2O7N2)陶瓷材料的方法。
背景技術(shù)
Lu4Si2O7N2陶瓷材料是一種新型耐高溫陶瓷材料,硬度和模量高、可以作為一種高溫結(jié)構(gòu)/功能一體化陶瓷應(yīng)用。同時作為氮化硅陶瓷的晶間相,其高溫性能優(yōu)異,對提高基體的高溫力學(xué)性能有益。另外,該陶瓷具有很低的熱導(dǎo)率和較好的高溫剛度,因此也可以作為潛在的隔熱材料,在航空、航天、核工業(yè)和高溫結(jié)構(gòu)件等高新技術(shù)領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。但是,Lu4Si2O7N2在合成過程中有較多的Lu-Si-O-N三元或四元競爭相,長期以來難以獲得較純的Lu4Si2O7N2塊體陶瓷材料。迄今為止,尚沒有關(guān)于镥硅氧氮陶瓷塊體材料制備或性能方面的報道。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是針對上述問題,提供了一種原位反應(yīng)制備镥硅氧氮(Lu4Si2O7N2)陶瓷材料的方法,其工藝簡單、合成溫度低、耗時短,節(jié)約能源,且可以獲得高純度的镥硅氧氮(Lu4Si2O7N2)陶瓷材料。
為了實現(xiàn)本發(fā)明的上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
采用原位反應(yīng)制備Lu4Si2O7N2材料的方法,以氧化镥粉(Lu2O3)、氧化硅粉(SiO2)和氮化硅粉(Si3N4)混合而成的固體粉末混合物作為原料,原位反應(yīng)合成單相的Lu4Si2O7N2粉體陶瓷材料,原料粉的摩爾比為Lu2O3∶SiO2∶Si3N4=4∶(0.8-1.2)∶(0.8-1.2)。
本發(fā)明中,獲得Lu2SiO5粉體陶瓷材料的平均粒度為0.5-2μm。
本發(fā)明中,獲得Lu2SiO5塊體陶瓷材料的相對致密度為99%。
原粒粉中,氧化镥粉的純度≥99.99wt.%,其平均粒度10-20μm;氧化硅粉的純度≥99wt.%,其平均粒度10-20μm;氮化硅粉的純度≥95wt.%,其平均粒度10-30μm。
本發(fā)明所述原位反應(yīng)制備镥硅氧氮(Lu4Si2O7N2)陶瓷材料的方法,包括如下步驟:
(1)將氧化镥粉(Lu2O3)、氧化硅粉(SiO2)和氮化硅粉(Si3N4)粉末混合物經(jīng)球磨機球磨5~50小時,將粉末置于烘箱中,在50~70℃下烘干,得到干燥粉末;
(2)以5-20MPa的壓力,常溫下將步驟(1)得到的干燥粉末冷壓成餅狀,冷壓時間5-30分鐘,然后裝入石墨模具中,在通有氮氣保護氣氛的熱壓爐中燒結(jié),熱壓爐以2~50℃/min的升溫速率升至1400~1800℃后保溫,原位反應(yīng)0.5~3小時,得到單相的粉體陶瓷材料。
原位反應(yīng)的同時進行熱壓處理,得到塊狀的镥硅氧氮(Lu4Si2O7N2)陶瓷材料。熱壓壓力為20-40MPa,熱壓壓力優(yōu)選為30MPa。
步驟(1)中,球磨過程采用氮化硅球加入分析純乙醇進行濕磨。
步驟(1)中,球磨介質(zhì)與原料粉末的分離采用過篩法,篩子的孔徑為200目。
步驟(1)中,球磨機球磨時間優(yōu)選為8~24小時,溫度優(yōu)選升至為70℃。
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