[發明專利]圓柱磁控濺射靶

無效

• 申請號: 201210097115.8
• 申請日: 2012-04-05
• 公開（公告）號: CN103361612A
• 公開（公告）日: 2013-10-23
• 發明（設計）人: 黃登聰;徐華勇;劉振章
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種圓柱磁控濺射靶，其包括靶頭及與靶頭連接于一體的靶體，其特征在于：該靶體包括一靶材、一套設在靶材外的防護裝置及一絕緣裝置，該防護裝置包括一內擋板，該絕緣裝置包括至少一絕緣件，所述絕緣件固設在內擋板的內側壁上。

2.如權利要求1所述的圓柱磁控濺射靶，其特征在于：該絕緣件的個數為3。

3.如權利要求2所述的圓柱磁控濺射靶，其特征在于：所述絕緣件均勻地間隔固設在內擋板的內側壁上。

4.如權利要求1所述的圓柱磁控濺射靶，其特征在于：該絕緣件通過螺釘連接、鉚釘連接或粘結的方式固定在內擋板的內側壁上。

5.如權利要求1所述的圓柱磁控濺射靶，其特征在于：該絕緣裝置的材質為耐高溫絕緣材料。

6.如權利要求5所述的圓柱磁控濺射靶，其特征在于：該絕緣裝置的材質為鐵氟龍或陶瓷。

7.如權利要求1所述的圓柱磁控濺射靶，其特征在于：該靶體還包括一靶材下蓋，該靶材下蓋與靶材之間設置有一絕緣座。

8.如權利要求1所述的圓柱磁控濺射靶，其特征在于：該防護裝置還包括一可旋轉地套設在該內擋板外的外擋板，當內擋板旋轉到與外擋板相對的位置時，外擋板處于關閉狀態，靶材被密封在外擋板與內擋板配合形成的空間內；當外擋板旋轉到內擋板的同一側時，外擋板處理開啟狀態，該靶材可進行磁控濺射作業。

9.如權利要求1所述的圓柱磁控濺射靶，其特征在于：該靶頭與靶體通過一連接件連接在一起。

10.如權利要求1所述的圓柱磁控濺射靶，其特征在于：該靶頭包括一靶座及一第一傳動裝置，該靶座承載所述第一傳動裝置，該第一傳動裝置驅動靶材沿其中心軸進行旋轉。